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技术文章
活性药物成分API研磨分散机，活性药物成分API湿法超微粉碎机，原料药中间体湿法超微粉碎机
点击次数：2799 发布时间：2023/5/16 8:42:10
活性药物成分API研磨分散机，活性药物成分API湿法超微粉碎机，原料药中间体湿法超微粉碎机，符合GMP防爆要求的微纳米药物湿法研磨分散机
粉碎或解聚活性药物成分 (API) 被称为微粉化，同时带来了几个优势。由破碎而形成的颗粒表面积的增加，带来了更高的分散率和生物药效率，因此API 反应得更快。由于生物药效率的增加，活性药物成分的需求量降低，从而得到了较小的风险和副作用，性价比更高的产品。
活性药物成分API湿法超微粉碎机CMSD2000系列研磨分散机机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。物料通过研磨分散机定转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果，粉体粒径可至微纳米。
CMSD2000系列活性药物成分API湿法超微粉碎机选型表
| 型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN | ||
| CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
| CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
| CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
| CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
| CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
| CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10%
活性药物成分API研磨分散机，活性药物成分API湿法超微粉碎机，原料药中间体湿法超微粉碎机，符合GMP防爆要求的微纳米药物湿法研磨分散机，药物湿法研磨分散机，研磨机原创作者：上海依肯机械设备有限公司
