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上海依肯机械设备有限公司 主营产品:纳米乳化机/纳米分散机/纳米均质机/纳米胶体磨/纳米研磨机/湿法粉碎机/纳米锥体磨/高剪切研磨分散机/粉液混合机/固液混合机/真空乳化均质机/实验室匀浆机

第5年

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技术文章

隔膜浆料陶瓷研磨分散机,陶瓷磨头研磨分散机,特制磨头研磨分散机

点击次数:2761 发布时间:2023/5/14 23:08:37

产品简介
隔膜浆料陶瓷研磨分散机,陶瓷磨头研磨分散机,特制磨头研磨分散机,2023年IKN产品更新

陶瓷胶体磨是由二组陶瓷转子,二组陶瓷定子组成,在陶瓷胶体磨泵腔内部转子高速旋转,使陶瓷转子甩出,紧贴陶瓷定子,产生强劲的动能能快速地将粉体分散到液体中,快速、均匀地将一个相或多个相分布到另一个连续的相中,通常物料中的各个相是互不相溶的。。使物料在定转子之间微小的空隙中受到剪切、离心挤压、撞击、研磨、高频振荡等综合作用,使物料经过研磨后细度大大提高,再通过适量的添加剂共同作用,使产品快速、均匀、分散、乳化,研磨,避免了原金属胶体磨磨损后效果差缺点,效能比原来有胶体磨提高3倍以上,特别是对金属污染要求特别高的企业,如电子和电池行业,可以达到更高的产品要求。
涂覆高纯氧化锯(VK-L30G)隔膜的优点:
1.耐高温性:

氧化铝涂层具有优良的耐高温性,在180摄氏度以上还能保持隔膜形态。

2.高安全性:

氧化铝涂层可中和电解液中游离的田,提升电池耐酸性,安全性提高。

3.高倍率性能:

纳米氧化铝在键电池中可形成固溶体,提高倍率性和循环性能

4.良好浸润性:

纳米氧化铝粉末具有良好的吸液及保液能力。

5.独特的自关断特性:

保持了聚烯烃隔膜的闭孔特性,避免热失控引起安全隐志。

6.低自放电率:

氧化铝涂层增加微孔曲折度,自放电低于普通隔膜。

7.循环寿命长:

降低了循环过程中的机械微短路,有效提升循环寿命

工作原理

研磨分散机的细化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的道或者用于高粘度的场合。 研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。第1机由具有精细度递升的三机锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每都可以改变方向。第2机由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以的经验选取相应的工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

产品选型
IKN研磨分散机技术参数选型表:

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

隔膜浆料陶瓷研磨分散机,陶瓷磨头研磨分散机,特制磨头研磨分散机,2023年IKN产品更新

原创作者:上海依肯机械设备有限公司

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