超纯水是半导体、精密电子制造等领域的核心工艺介质，水质洁净度直接关联制程稳定性与产品良率。超纯水在制备、储存、输送全过程中，易因滤芯损耗、管道析出、环境浮尘等因素混入微纳米级固体颗粒，这类微小污染物无法通过电阻率、电导率等常规水质指标检出，仅能依托专业颗粒检测设备完成量化监测。双激光微纳米颗粒检测技术的落地应用，弥补了传统单激光检测设备在微小颗粒识别、抗干扰能力上的短板，成为当下超纯水水质管控的主流技术方案。普洛帝PMT-2超纯水版颗粒计数器，依托专属双激光检测架构与适配纯水介质的硬件设计，针对性匹配超纯水微量颗粒检测需求，广泛适配半导体全流程水质监测场景。
超纯水检测意义
半导体制造对超纯水纯度有着严苛标准，芯片蚀刻、晶圆清洗、光刻等核心工序，均以超纯水作为清洗、溶剂介质。水体中存在的0.1μm及以上微纳米颗粒，会附着在晶圆表面，造成电路短路、图案缺陷、镀膜不均等问题，大幅降低芯片良品率。不同于普通工业用水，超纯水杂质含量极低，污染物以微量超细颗粒为主，常规水质检测设备仅能监测离子、有机物等指标，无法捕捉悬浮固体颗粒。
常态化颗粒检测可实时掌握超纯水制备系统、输送管路、储水系统的运行状态，及时发现滤芯老化、管道污染、设备渗漏等潜在问题，保障制程用水水质稳定。在半导体规模化生产中，稳定的超纯水洁净度管控，能够减少制程异常波动，降低生产损耗，为精密制造流程提供基础水质保障，契合行业标准化生产管控要求。
技术原理
普洛帝PMT-2超纯水版搭载第八代双激光窄光检测器，采用双光路协同检测架构，基于光阻法检测原理完成微纳米颗粒计数与粒径分析。设备两组激光发射组件输出稳定窄光束，交叉穿透超纯水样品流通区域，形成固定检测传感区域。当水体中的悬浮颗粒随水样匀速通过检测区域时，会遮挡对应光路光束，造成光信号强度衰减。
应用场景
半导体晶圆制造是该设备的核心应用场景，可用于12英寸、8英寸晶圆产线的超纯水终端水质监测，覆盖EDI纯水系统、抛光混床、终端输送管路等关键节点，实时监测制程用水中微颗粒含量，保障晶圆清洗、蚀刻、光刻等工序的水质达标。在半导体封装测试环节，设备可监测清洗超纯水的洁净度，避免颗粒杂质附着芯片引脚、封装基材，影响产品封装品质。
同时，设备可适配半导体纯水制备车间的日常质控工作，用于新设备调试、滤芯更换前后的水质对比检测，辅助工作人员评估纯水系统运行状态。此外，在半导体实验室水质检测、光伏半导体材料制备等关联场景，该设备也可完成超纯水颗粒污染度检测，满足精密制造领域的水质管控需求。设备检测数据可一键导出，用于制程追溯与滤芯性能验证，适配工业化批量生产的质控管理流程。
依托双激光检测技术的稳定表现与纯水专属适配设计，普洛帝PMT-2超纯水版颗粒计数器能够匹配半导体行业超纯水微量颗粒检测的核心需求，解决传统检测设备抗干扰弱、微小颗粒识别不足的问题，为半导体制程水质稳定管控提供可靠的设备支撑，助力精密制造行业水质质控体系的规范化落地。
第16年
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