ICP-MS 7700x具有适应多种样品类型、应用范围广泛、性能稳定耐用的特点，是大多数常规实验室和分析大批量样品的商业实验室的上佳选择。ICP-MS 7700s 则是专为半导体行业应用而设计，具有半导体针对性的强大功能。这两种型号都具有无可比拟的性能和易于使用的优点，即使您面对的是棘手的样品基体，它们都能为您获取值得信赖的分析结果。

7700系列ICP-MS不但配置了新的软件平台，而且在仪器硬件方面也进行了革新设计，包括数字控制式射频匹配的RF发生器和第三代八极杆碰撞/反应池系统(ORS3)。安捷伦 ICP-MS 7700x 凭借第三代碰撞/ 反应池(ORS3) 为复杂高基体样品的分析提供了无可比拟的准确性，它重新定义了碰撞/反应池：仅使用氦气碰撞即可消除所有可能的质谱干扰！

技术参数：

1.灵敏度：

低质量数 Li(7): 50 Mcps/ppm；

中质量数 Y(89): 60 Mcps/ppm（7700x)； 240 Mcps/ppm(7700s) ；

(高质量数 Tl(205): 80 Mcps/ppm(7700x)； 120 Mcps/ppm(7700s)；

根据用户特殊需求，如激光、核工业、半导体材料等应用，可提供高灵敏度功能

2.检测限：

低质量数 Be(9): 0.5 ppt；

中质量数 In(115): 0.1 ppt

高质量数 Bi(209): 0.1 ppt

3.氧化物干扰: CeO+/Ce+:1.5 %(7700x)； 3.0 %(7700s)；

4.双电荷干扰: Ce2+/Ce+:3.0 %

5.同位素比精度: RSD(107Ag/109Ag) 0.1%

6.质谱范围：2 – 260 amu；

7.丰度灵敏度

低质量端: 5 x 10⁻⁷

高质量端: 1 x 10⁻⁷

主要特点：

全球尺寸zui小的ICP-MS

灵敏度zui高的碰撞池-第三代ORS3

纯He氦气碰撞池：只用He气就可以消除所有干扰。

耐高盐的ICP-MS: HMI技术（TDS>3%）

ICP离子源技术：数字控制式谐频ICP发生器

有机溶剂进样不熄火！

分析速度快：ISIS-DS技术

容易维护和清洗

强大的色谱联机功能：一体化

功能强大的软件：MassHunter系统，实现实时QA/QC

偏移标示，自动化控制等