您的位置:阿仪网 > 半导体行业专用仪器设备 > 光刻及涂胶显影设备 > 无掩模光刻机/直写光刻机 > 托托科技(苏州)有限公司 > 产品展示 > 无掩模光刻机 > 托托科技高精度无掩模紫外光刻机UV Litho-ACA

联系我们

联系人:程

点击查看联系方式

产品展示

托托科技高精度无掩模紫外光刻机

托托科技高精度无掩模紫外光刻机

点击次数:241

价格:¥电议

更新日期:2026/8/14 13:40:44

生 产 地:中国大陆

产品型号:UV Litho-ACA

简单介绍:UV Litho-ACA 是托托科技科研版无掩模紫外光刻机,主打高灵活性与高精度,适配各类科研场景,采用步进式光刻方案,配备多镜头电动切换功能,标准加工幅面为 6 英寸。

商家名片
*
联系我时,请说明是阿仪网看到的,谢谢!
  • 电话: 15******110
  • 手机: 15******110
  • 微信:
  • 交换名片后展示联系方式 → →
相关标签:无掩模光刻机,激光直写,无掩模光刻

详细内容

UV Litho-ACA 是托托科技科研版无掩模紫外光刻机,主打高灵活性与高精度,适配各类科研场景,采用步进式光刻方案,配备多镜头电动切换功能,标准加工幅面为 6 英寸。

设备依托 DMD 无掩模光刻技术,无需制作掩模版,可直接导入 GDS、DWG、DXF 格式图形文件完成图案曝光,能快速验证科研设计方案。搭载 405nm/380nm LED 光源,灰度光刻功能支持选配,可满足多样化微纳结构制备需求。

设备支持不同尺寸样品加工,样品厚度适配 0-10mm,具备稳定的套刻能力,可完成多层结构光刻作业。整机体积紧凑、重量适中,对安装场地要求常规,环境适配性强,适用于微电子、二维材料、MEMS、光学微结构等领域的科研实验。

ACA-2.jpg1.jpg

无掩模光刻机,激光直写,无掩模光刻

采购记录

优质供应

相关文章

  • 友情链接
  • 热词推荐
在线咨询5分钟应答

提交