无掩膜激光直写纳米光刻机

miDALIX的核心技术源于Aresis的AOD高精度激光操控技术。Aresisd.o.o.是一家立足于高校和研究所的科研型高科技公司。在过去的二十多年中，Aresis一直致力于基于声光偏转技术（AOD）的各种激光操控研究，并成功地将其研究成果应用于成熟稳定的科研设备开发实践中。基于在高速AOD应用域的深厚技术积累，Aresis开发了Tweez系列高速多光阱纳米光镊系统和DaLI高精度无掩膜纳米光刻机。为范围内的科研工作者提供了技术先进、性能稳定的科研工具，得到了用户的广泛好评。

基本特点

超稳定，长时效375nm激

相对于其它各种光源，在精密光学仪器应用中，激光光源在光束质量，稳定性，耐用性等方面具有无与伦比的优越性。DaLI无掩膜纳米光刻机采用优的激光光源，以保证超一流的性能和用户体验。

广泛的适应性

DaLI无掩膜纳米光刻机广泛适用于各种I-line光刻胶，AZ系列正胶，SU-8系列负胶等，在各种厚胶与薄胶应用中有着出色的表现

非平表面直写功能

整机恒温系统，保证佳的性能

DaLI无掩膜纳米光刻机采用了超越光刻技术限的亚纳米AOD激光操控技术，光斑定位精度可达0.1nm。为充分发挥AOD技术的优势，我们建立了整机恒温系统，控温精度可达±0.1℃，将设备所有部件和温差形变和热漂移降到低，从而实现真正的高精度光刻。

先进的AOD技术，定位分辨率优于0.1nm
A. 可以获得任意平滑、锐利的结构边缘

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详询：广东骏楠光子科技有限公司，https://www.junnan-optics.cn/product/dali-series-maskless-nanolithography-machine-1.html