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荧光分布成像系统
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价格：￥电议
更新日期：2026/9/10 12:21:15
生 产 地：日本
产品型号：EEM® View
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详细内容
什么是EEM View
新技术可同时获得荧光 · 反射图像和光谱
· 测定样品的光谱数据（反射光谱、荧光光谱）
· 在不同光源条件（白光和单色光）下拍摄样品
（区域:Φ20 mm、波长范围:380~700 nm）
· 采用AI光谱图像处理算法＊1，能够分别显示样品荧光图像和反射图像
· 根据图像可获得不同区域的光谱信息＊1（荧光光谱、反射光谱）
*1
计算系统是国立信息学研究所的IMARI SATO教授和郑银强副教授共同研究的成果
EEM View Analysis 界面（样品：LED电路板）
荧光分布成像系统概要
均匀的光源系统
同时获取样品的荧光 · 反射图像和光谱！
· 积分球漫反射使光源均匀化
· 利用积分球收集的光均匀照射样品
· 采用荧光检测器和CMOS相机双检测模式
新型荧光分布成像系统可安装到F⁻⁷100荧光分光光度计的样品仓内。入射光经过积分球的漫反射后均匀照射到样品，利用F⁻⁷100标配的荧光检测器可以获得样品荧光光谱，结合积分球下方的CMOS相机可获得样品图像，并利用独特的AI光谱图像处理算法，可以同时得到反射和荧光图像。
样品安装简单，适用于各种样品测试！
样品只需摆放到积分球上，安装十分简单！
· 板状样品：通过石英窗安装样品。
· 粉末样品：将粉末填充至样品平整夹具中，置于粉末样品池支架，或使用选配件固体样品支架中的粉末样品池安装样品。
· 校正时，需放置好荧光标准样品。
· 请使用选配的标准白板(100 %)和空白样品(0 %)进行校正。此校正工具可被应用于荧光强度、反射率校正， 以及图像不同区域的亮度分布校正。
