技术参数
样品室

样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm
单位盘 样品可大至样品室大小
10位盘(选购件) 带自转机构，样品可大至47mm
20位盘(选购件) 样品可大至31mm
自动和手动盘 为特种样品用的样品盘，选购件
环境 空气、真空(选购件)和充氦(选购件)

激发
X-光管 超高通量，端窗，RH靶，76um铍窗，空气冷却，其它靶可选
X-光发生器 4-50KV，1KV间隔。O.02-2.OmA,0.02mA 间隔
滤光片 7种滤光片加1空位，自动选择
准直器(选购件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五种

检测配置器
Si(Li)电致冷 Si(Li)面积15mm2，分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面积30mm2，分辨率<149 eV

数据采集
数字脉冲处理器 全部参数程序控制，自动能量校正
多道脉冲分析器 32位，4096道多道分析器
数据接口 计算机以太网接口

分析处理器和WinTrace
计算机／打印机 主流计算机和彩色打印机
显示 X-射线能谱，重叠谱比较，峰鉴定标记，分析参数
输出 监视器，图形打印机和调制解调器
自动化 样品室环境，X射线源输出，滤光片选择，多次激发条件，
和样品选择
谱处理 自动元素鉴定，数字滤波本底扣除，小二乘法经验峰去卷积，
总峰强度，和净峰强度
分析技术 经验系数法和基本参数法，归化，校正曲线图显示
操作系统 微软WindowsXP及更新的版本

尺寸和重量
外形尺寸 宽71.88cm，高41.15cm，深59.18cm
重量 90.7kg

使用要求
电源 100、115或230VAC,50或60hz，功率1000W，真空泵需2000W
电话 遥控诊断和遥控监测需要通过因特网连线

环境要求
温度 O～32℃
湿度 20～80％RH(无冷凝水)

参考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-荧光能谱法测定危险废燃料中痕量元素的标准测试方法
D6052.97 X-荧光能谱法对液体危险废料中元素分析的标准测试方法

主要特点

超大Si(Li) 晶体，具有高的痕量分析的灵敏度，打破lng的检测限壁垒

全数字脉冲处理器技术，死时间达60%， 以及优异的峰背比
高FP无标样分析软件，进行无标样分析，减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室，可容纳300mm400mm的样品
全自动校准，自动监测，自动报警系统，完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
ARL QUANT＇＇X 应用

气溶胶颗粒滤膜
应对RoHS & WEEE 指令分析
刑侦以及痕量分析
营养添加剂
磁性磁性介质、半导体器件、PCB板等镀层镀膜（叠层）测厚及材料分析
高性能，操作简便WinTrace软件

直观
功能强大
安全
操作灵活，方便用户

【应 用】

【样品盘选件】
美国赛黙飞世尔ThermoFisher（美国热电）能量色散X-射线荧光光谱仪（ED-XRF）

技术参数
样品室

样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm
单位盘 样品可大至样品室大小
10位盘(选购件) 带自转机构，样品可大至47mm
20位盘(选购件) 样品可大至31mm
自动和手动盘 为特种样品用的样品盘，选购件
环境 空气、真空(选购件)和充氦(选购件)

激发
X-光管 超高通量，端窗，RH靶，76um铍窗，空气冷却，其它靶可选
X-光发生器 4-50KV，1KV间隔。O.02-2.OmA,0.02mA 间隔
滤光片 7种滤光片加1空位，自动选择
准直器(选购件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五种

检测配置器
Si(Li)电致冷 Si(Li)面积15mm2，分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面积30mm2，分辨率<149 eV

数据采集
数字脉冲处理器 全部参数程序控制，自动能量校正
多道脉冲分析器 32位，4096道多道分析器
数据接口 计算机以太网接口

分析处理器和WinTrace
计算机／打印机 主流计算机和彩色打印机
显示 X-射线能谱，重叠谱比较，峰鉴定标记，分析参数
输出 监视器，图形打印机和调制解调器
自动化 样品室环境，X射线源输出，滤光片选择，多次激发条件，
和样品选择
谱处理 自动元素鉴定，数字滤波本底扣除，小二乘法经验峰去卷积，
总峰强度，和净峰强度
分析技术 经验系数法和基本参数法，归化，校正曲线图显示
操作系统 微软WindowsXP及更新的版本

尺寸和重量
外形尺寸 宽71.88cm，高41.15cm，深59.18cm
重量 90.7kg

使用要求
电源 100、115或230VAC,50或60hz，功率1000W，真空泵需2000W
电话 遥控诊断和遥控监测需要通过因特网连线

环境要求
温度 O～32℃
湿度 20～80％RH(无冷凝水)

参考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-荧光能谱法测定危险废燃料中痕量元素的标准测试方法
D6052.97 X-荧光能谱法对液体危险废料中元素分析的标准测试方法

主要特点

超大Si(Li) 晶体，具有高的痕量分析的灵敏度，打破lng的检测限壁垒

全数字脉冲处理器技术，死时间达60%， 以及优异的峰背比
高FP无标样分析软件，进行无标样分析，减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室，可容纳300mm400mm的样品
全自动校准，自动监测，自动报警系统，完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
ARL QUANT＇＇X 应用

气溶胶颗粒滤膜
应对RoHS & WEEE 指令分析
刑侦以及痕量分析
营养添加剂
磁性磁性介质、半导体器件、PCB板等镀层镀膜（叠层）测厚及材料分析
高性能，操作简便WinTrace软件

直观
功能强大
安全
操作灵活，方便用户

【应 用】

【样品盘选件】 美国赛黙飞世尔ThermoFisher（美国热电）能量色散X-射线荧光光谱仪（ED-XRF）

技术参数
样品室

样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm
单位盘 样品可大至样品室大小
10位盘(选购件) 带自转机构，样品可大至47mm
20位盘(选购件) 样品可大至31mm
自动和手动盘 为特种样品用的样品盘，选购件
环境 空气、真空(选购件)和充氦(选购件)

激发
X-光管 超高通量，端窗，RH靶，76um铍窗，空气冷却，其它靶可选
X-光发生器 4-50KV，1KV间隔。O.02-2.OmA,0.02mA 间隔
滤光片 7种滤光片加1空位，自动选择
准直器(选购件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五种

检测配置器
Si(Li)电致冷 Si(Li)面积15mm2，分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面积30mm2，分辨率<149 eV

数据采集
数字脉冲处理器 全部参数程序控制，自动能量校正
多道脉冲分析器 32位，4096道多道分析器
数据接口 计算机以太网接口

分析处理器和WinTrace
计算机／打印机 主流计算机和彩色打印机
显示 X-射线能谱，重叠谱比较，峰鉴定标记，分析参数
输出 监视器，图形打印机和调制解调器
自动化 样品室环境，X射线源输出，滤光片选择，多次激发条件，
和样品选择
谱处理 自动元素鉴定，数字滤波本底扣除，小二乘法经验峰去卷积，
总峰强度，和净峰强度
分析技术 经验系数法和基本参数法，归化，校正曲线图显示
操作系统 微软WindowsXP及更新的版本

尺寸和重量
外形尺寸 宽71.88cm，高41.15cm，深59.18cm
重量 90.7kg

使用要求
电源 100、115或230VAC,50或60hz，功率1000W，真空泵需2000W
电话 遥控诊断和遥控监测需要通过因特网连线

环境要求
温度 O～32℃
湿度 20～80％RH(无冷凝水)

参考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-荧光能谱法测定危险废燃料中痕量元素的标准测试方法
D6052.97 X-荧光能谱法对液体危险废料中元素分析的标准测试方法

主要特点

超大Si(Li) 晶体，具有高的痕量分析的灵敏度，打破lng的检测限壁垒

全数字脉冲处理器技术，死时间达60%， 以及优异的峰背比
高FP无标样分析软件，进行无标样分析，减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室，可容纳300mm400mm的样品
全自动校准，自动监测，自动报警系统，完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
ARL QUANT＇＇X 应用

气溶胶颗粒滤膜
应对RoHS & WEEE 指令分析
刑侦以及痕量分析
营养添加剂
磁性磁性介质、半导体器件、PCB板等镀层镀膜（叠层）测厚及材料分析
高性能，操作简便WinTrace软件

直观
功能强大
安全
操作灵活，方便用户

【应 用】

【样品盘选件】 美国赛黙飞世尔ThermoFisher（美国热电）能量色散X-射线荧光光谱仪（ED-XRF）

技术参数
样品室

样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm
单位盘 样品可大至样品室大小
10位盘(选购件) 带自转机构，样品可大至47mm
20位盘(选购件) 样品可大至31mm
自动和手动盘 为特种样品用的样品盘，选购件
环境 空气、真空(选购件)和充氦(选购件)

激发
X-光管 超高通量，端窗，RH靶，76um铍窗，空气冷却，其它靶可选
X-光发生器 4-50KV，1KV间隔。O.02-2.OmA,0.02mA 间隔
滤光片 7种滤光片加1空位，自动选择
准直器(选购件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五种

检测配置器
Si(Li)电致冷 Si(Li)面积15mm2，分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面积30mm2，分辨率<149 eV

数据采集
数字脉冲处理器 全部参数程序控制，自动能量校正
多道脉冲分析器 32位，4096道多道分析器
数据接口 计算机以太网接口

分析处理器和WinTrace
计算机／打印机 主流计算机和彩色打印机
显示 X-射线能谱，重叠谱比较，峰鉴定标记，分析参数
输出 监视器，图形打印机和调制解调器
自动化 样品室环境，X射线源输出，滤光片选择，多次激发条件，
和样品选择
谱处理 自动元素鉴定，数字滤波本底扣除，小二乘法经验峰去卷积，
总峰强度，和净峰强度
分析技术 经验系数法和基本参数法，归化，校正曲线图显示
操作系统 微软WindowsXP及更新的版本

尺寸和重量
外形尺寸 宽71.88cm，高41.15cm，深59.18cm
重量 90.7kg

使用要求
电源 100、115或230VAC,50或60hz，功率1000W，真空泵需2000W
电话 遥控诊断和遥控监测需要通过因特网连线

环境要求
温度 O～32℃
湿度 20～80％RH(无冷凝水)

参考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-荧光能谱法测定危险废燃料中痕量元素的标准测试方法
D6052.97 X-荧光能谱法对液体危险废料中元素分析的标准测试方法

主要特点

超大Si(Li) 晶体，具有高的痕量分析的灵敏度，打破lng的检测限壁垒

全数字脉冲处理器技术，死时间达60%， 以及优异的峰背比
高FP无标样分析软件，进行无标样分析，减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室，可容纳300mm400mm的样品
全自动校准，自动监测，自动报警系统，完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
ARL QUANT＇＇X 应用

气溶胶颗粒滤膜
应对RoHS & WEEE 指令分析
刑侦以及痕量分析
营养添加剂
磁性磁性介质、半导体器件、PCB板等镀层镀膜（叠层）测厚及材料分析
高性能，操作简便WinTrace软件

直观
功能强大
安全
操作灵活，方便用户

【应 用】

【样品盘选件】 美国赛黙飞世尔ThermoFisher（美国热电）能量色散X-射线荧光光谱仪（ED-XRF）

技术参数
样品室

样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm
单位盘 样品可大至样品室大小
10位盘(选购件) 带自转机构，样品可大至47mm
20位盘(选购件) 样品可大至31mm
自动和手动盘 为特种样品用的样品盘，选购件
环境 空气、真空(选购件)和充氦(选购件)

激发
X-光管 超高通量，端窗，RH靶，76um铍窗，空气冷却，其它靶可选
X-光发生器 4-50KV，1KV间隔。O.02-2.OmA,0.02mA 间隔
滤光片 7种滤光片加1空位，自动选择
准直器(选购件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五种

检测配置器
Si(Li)电致冷 Si(Li)面积15mm2，分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面积30mm2，分辨率<149 eV

数据采集
数字脉冲处理器 全部参数程序控制，自动能量校正
多道脉冲分析器 32位，4096道多道分析器
数据接口 计算机以太网接口

分析处理器和WinTrace
计算机／打印机 主流计算机和彩色打印机
显示 X-射线能谱，重叠谱比较，峰鉴定标记，分析参数
输出 监视器，图形打印机和调制解调器
自动化 样品室环境，X射线源输出，滤光片选择，多次激发条件，
和样品选择
谱处理 自动元素鉴定，数字滤波本底扣除，小二乘法经验峰去卷积，
总峰强度，和净峰强度
分析技术 经验系数法和基本参数法，归化，校正曲线图显示
操作系统 微软WindowsXP及更新的版本

尺寸和重量
外形尺寸 宽71.88cm，高41.15cm，深59.18cm
重量 90.7kg

使用要求
电源 100、115或230VAC,50或60hz，功率1000W，真空泵需2000W
电话 遥控诊断和遥控监测需要通过因特网连线

环境要求
温度 O～32℃
湿度 20～80％RH(无冷凝水)

参考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-荧光能谱法测定危险废燃料中痕量元素的标准测试方法
D6052.97 X-荧光能谱法对液体危险废料中元素分析的标准测试方法

主要特点

超大Si(Li) 晶体，具有高的痕量分析的灵敏度，打破lng的检测限壁垒

全数字脉冲处理器技术，死时间达60%， 以及优异的峰背比
高FP无标样分析软件，进行无标样分析，减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室，可容纳300mm400mm的样品
全自动校准，自动监测，自动报警系统，完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
ARL QUANT＇＇X 应用

气溶胶颗粒滤膜
应对RoHS & WEEE 指令分析
刑侦以及痕量分析
营养添加剂
磁性磁性介质、半导体器件、PCB板等镀层镀膜（叠层）测厚及材料分析
高性能，操作简便WinTrace软件

直观
功能强大
安全
操作灵活，方便用户

【应 用】

【样品盘选件】 美国赛黙飞世尔ThermoFisher（美国热电）能量色散X-射线荧光光谱仪（ED-XRF）

技术参数
样品室

样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm
单位盘 样品可大至样品室大小
10位盘(选购件) 带自转机构，样品可大至47mm
20位盘(选购件) 样品可大至31mm
自动和手动盘 为特种样品用的样品盘，选购件
环境 空气、真空(选购件)和充氦(选购件)

激发
X-光管 超高通量，端窗，RH靶，76um铍窗，空气冷却，其它靶可选
X-光发生器 4-50KV，1KV间隔。O.02-2.OmA,0.02mA 间隔
滤光片 7种滤光片加1空位，自动选择
准直器(选购件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五种

检测配置器
Si(Li)电致冷 Si(Li)面积15mm2，分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面积30mm2，分辨率<149 eV

数据采集
数字脉冲处理器 全部参数程序控制，自动能量校正
多道脉冲分析器 32位，4096道多道分析器
数据接口 计算机以太网接口

分析处理器和WinTrace
计算机／打印机 主流计算机和彩色打印机
显示 X-射线能谱，重叠谱比较，峰鉴定标记，分析参数
输出 监视器，图形打印机和调制解调器
自动化 样品室环境，X射线源输出，滤光片选择，多次激发条件，
和样品选择
谱处理 自动元素鉴定，数字滤波本底扣除，小二乘法经验峰去卷积，
总峰强度，和净峰强度
分析技术 经验系数法和基本参数法，归化，校正曲线图显示
操作系统 微软WindowsXP及更新的版本

尺寸和重量
外形尺寸 宽71.88cm，高41.15cm，深59.18cm
重量 90.7kg

使用要求
电源 100、115或230VAC,50或60hz，功率1000W，真空泵需2000W
电话 遥控诊断和遥控监测需要通过因特网连线

环境要求
温度 O～32℃
湿度 20～80％RH(无冷凝水)

参考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-荧光能谱法测定危险废燃料中痕量元素的标准测试方法
D6052.97 X-荧光能谱法对液体危险废料中元素分析的标准测试方法

主要特点

超大Si(Li) 晶体，具有高的痕量分析的灵敏度，打破lng的检测限壁垒

全数字脉冲处理器技术，死时间达60%， 以及优异的峰背比
高FP无标样分析软件，进行无标样分析，减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室，可容纳300mm400mm的样品
全自动校准，自动监测，自动报警系统，完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
ARL QUANT＇＇X 应用

气溶胶颗粒滤膜
应对RoHS & WEEE 指令分析
刑侦以及痕量分析
营养添加剂
磁性磁性介质、半导体器件、PCB板等镀层镀膜（叠层）测厚及材料分析
高性能，操作简便WinTrace软件

直观
功能强大
安全
操作灵活，方便用户

【应 用】

【样品盘选件】 美国赛黙飞世尔ThermoFisher（美国热电）能量色散X-射线荧光光谱仪（ED-XRF）

技术参数
样品室

样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm
单位盘 样品可大至样品室大小
10位盘(选购件) 带自转机构，样品可大至47mm
20位盘(选购件) 样品可大至31mm
自动和手动盘 为特种样品用的样品盘，选购件
环境 空气、真空(选购件)和充氦(选购件)

激发
X-光管 超高通量，端窗，RH靶，76um铍窗，空气冷却，其它靶可选
X-光发生器 4-50KV，1KV间隔。O.02-2.OmA,0.02mA 间隔
滤光片 7种滤光片加1空位，自动选择
准直器(选购件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五种

检测配置器
Si(Li)电致冷 Si(Li)面积15mm2，分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面积30mm2，分辨率<149 eV

数据采集
数字脉冲处理器 全部参数程序控制，自动能量校正
多道脉冲分析器 32位，4096道多道分析器
数据接口 计算机以太网接口

分析处理器和WinTrace
计算机／打印机 主流计算机和彩色打印机
显示 X-射线能谱，重叠谱比较，峰鉴定标记，分析参数
输出 监视器，图形打印机和调制解调器
自动化 样品室环境，X射线源输出，滤光片选择，多次激发条件，
和样品选择
谱处理 自动元素鉴定，数字滤波本底扣除，小二乘法经验峰去卷积，
总峰强度，和净峰强度
分析技术 经验系数法和基本参数法，归化，校正曲线图显示
操作系统 微软WindowsXP及更新的版本

尺寸和重量
外形尺寸 宽71.88cm，高41.15cm，深59.18cm
重量 90.7kg

使用要求
电源 100、115或230VAC,50或60hz，功率1000W，真空泵需2000W
电话 遥控诊断和遥控监测需要通过因特网连线

环境要求
温度 O～32℃
湿度 20～80％RH(无冷凝水)

参考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-荧光能谱法测定危险废燃料中痕量元素的标准测试方法
D6052.97 X-荧光能谱法对液体危险废料中元素分析的标准测试方法

主要特点

超大Si(Li) 晶体，具有高的痕量分析的灵敏度，打破lng的检测限壁垒

全数字脉冲处理器技术，死时间达60%， 以及优异的峰背比
高FP无标样分析软件，进行无标样分析，减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室，可容纳300mm400mm的样品
全自动校准，自动监测，自动报警系统，完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
ARL QUANT＇＇X 应用

气溶胶颗粒滤膜
应对RoHS & WEEE 指令分析
刑侦以及痕量分析
营养添加剂
磁性磁性介质、半导体器件、PCB板等镀层镀膜（叠层）测厚及材料分析
高性能，操作简便WinTrace软件

直观
功能强大
安全
操作灵活，方便用户

【应 用】

【样品盘选件】 美国赛黙飞世尔ThermoFisher（美国热电）能量色散X-射线荧光光谱仪（ED-XRF）

技术参数
样品室

样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm
单位盘 样品可大至样品室大小
10位盘(选购件) 带自转机构，样品可大至47mm
20位盘(选购件) 样品可大至31mm
自动和手动盘 为特种样品用的样品盘，选购件
环境 空气、真空(选购件)和充氦(选购件)

激发
X-光管 超高通量，端窗，RH靶，76um铍窗，空气冷却，其它靶可选
X-光发生器 4-50KV，1KV间隔。O.02-2.OmA,0.02mA 间隔
滤光片 7种滤光片加1空位，自动选择
准直器(选购件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五种

检测配置器
Si(Li)电致冷 Si(Li)面积15mm2，分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面积30mm2，分辨率<149 eV

数据采集
数字脉冲处理器 全部参数程序控制，自动能量校正
多道脉冲分析器 32位，4096道多道分析器
数据接口 计算机以太网接口

分析处理器和WinTrace
计算机／打印机 主流计算机和彩色打印机
显示 X-射线能谱，重叠谱比较，峰鉴定标记，分析参数
输出 监视器，图形打印机和调制解调器
自动化 样品室环境，X射线源输出，滤光片选择，多次激发条件，
和样品选择
谱处理 自动元素鉴定，数字滤波本底扣除，小二乘法经验峰去卷积，
总峰强度，和净峰强度
分析技术 经验系数法和基本参数法，归化，校正曲线图显示
操作系统 微软WindowsXP及更新的版本

尺寸和重量
外形尺寸 宽71.88cm，高41.15cm，深59.18cm
重量 90.7kg

使用要求
电源 100、115或230VAC,50或60hz，功率1000W，真空泵需2000W
电话 遥控诊断和遥控监测需要通过因特网连线

环境要求
温度 O～32℃
湿度 20～80％RH(无冷凝水)

参考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-荧光能谱法测定危险废燃料中痕量元素的标准测试方法
D6052.97 X-荧光能谱法对液体危险废料中元素分析的标准测试方法

主要特点

超大Si(Li) 晶体，具有高的痕量分析的灵敏度，打破lng的检测限壁垒

全数字脉冲处理器技术，死时间达60%， 以及优异的峰背比
高FP无标样分析软件，进行无标样分析，减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室，可容纳300mm400mm的样品
全自动校准，自动监测，自动报警系统，完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
ARL QUANT＇＇X 应用

气溶胶颗粒滤膜
应对RoHS & WEEE 指令分析
刑侦以及痕量分析
营养添加剂
磁性磁性介质、半导体器件、PCB板等镀层镀膜（叠层）测厚及材料分析
高性能，操作简便WinTrace软件

直观
功能强大
安全
操作灵活，方便用户

【应 用】

【样品盘选件】 美国赛黙飞世尔ThermoFisher（美国热电）能量色散X-射线荧光光谱仪（ED-XRF）

技术参数
样品室

样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm
单位盘 样品可大至样品室大小
10位盘(选购件) 带自转机构，样品可大至47mm
20位盘(选购件) 样品可大至31mm
自动和手动盘 为特种样品用的样品盘，选购件
环境 空气、真空(选购件)和充氦(选购件)

激发
X-光管 超高通量，端窗，RH靶，76um铍窗，空气冷却，其它靶可选
X-光发生器 4-50KV，1KV间隔。O.02-2.OmA,0.02mA 间隔
滤光片 7种滤光片加1空位，自动选择
准直器(选购件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五种

检测配置器
Si(Li)电致冷 Si(Li)面积15mm2，分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面积30mm2，分辨率<149 eV

数据采集
数字脉冲处理器 全部参数程序控制，自动能量校正
多道脉冲分析器 32位，4096道多道分析器
数据接口 计算机以太网接口

分析处理器和WinTrace
计算机／打印机 主流计算机和彩色打印机
显示 X-射线能谱，重叠谱比较，峰鉴定标记，分析参数
输出 监视器，图形打印机和调制解调器
自动化 样品室环境，X射线源输出，滤光片选择，多次激发条件，
和样品选择
谱处理 自动元素鉴定，数字滤波本底扣除，小二乘法经验峰去卷积，
总峰强度，和净峰强度
分析技术 经验系数法和基本参数法，归化，校正曲线图显示
操作系统 微软WindowsXP及更新的版本

尺寸和重量
外形尺寸 宽71.88cm，高41.15cm，深59.18cm
重量 90.7kg

使用要求
电源 100、115或230VAC,50或60hz，功率1000W，真空泵需2000W
电话 遥控诊断和遥控监测需要通过因特网连线

环境要求
温度 O～32℃
湿度 20～80％RH(无冷凝水)

参考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-荧光能谱法测定危险废燃料中痕量元素的标准测试方法
D6052.97 X-荧光能谱法对液体危险废料中元素分析的标准测试方法

主要特点

超大Si(Li) 晶体，具有高的痕量分析的灵敏度，打破lng的检测限壁垒

全数字脉冲处理器技术，死时间达60%， 以及优异的峰背比
高FP无标样分析软件，进行无标样分析，减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室，可容纳300mm400mm的样品
全自动校准，自动监测，自动报警系统，完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
ARL QUANT＇＇X 应用

气溶胶颗粒滤膜
应对RoHS & WEEE 指令分析
刑侦以及痕量分析
营养添加剂
磁性磁性介质、半导体器件、PCB板等镀层镀膜（叠层）测厚及材料分析
高性能，操作简便WinTrace软件

直观
功能强大
安全
操作灵活，方便用户

【应 用】

【样品盘选件】 美国赛黙飞世尔ThermoFisher（美国热电）能量色散X-射线荧光光谱仪（ED-XRF）

技术参数
样品室

样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm
单位盘 样品可大至样品室大小
10位盘(选购件) 带自转机构，样品可大至47mm
20位盘(选购件) 样品可大至31mm
自动和手动盘 为特种样品用的样品盘，选购件
环境 空气、真空(选购件)和充氦(选购件)

激发
X-光管 超高通量，端窗，RH靶，76um铍窗，空气冷却，其它靶可选
X-光发生器 4-50KV，1KV间隔。O.02-2.OmA,0.02mA 间隔
滤光片 7种滤光片加1空位，自动选择
准直器(选购件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五种

检测配置器
Si(Li)电致冷 Si(Li)面积15mm2，分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面积30mm2，分辨率<149 eV

数据采集
数字脉冲处理器 全部参数程序控制，自动能量校正
多道脉冲分析器 32位，4096道多道分析器
数据接口 计算机以太网接口

分析处理器和WinTrace
计算机／打印机 主流计算机和彩色打印机
显示 X-射线能谱，重叠谱比较，峰鉴定标记，分析参数
输出 监视器，图形打印机和调制解调器
自动化 样品室环境，X射线源输出，滤光片选择，多次激发条件，
和样品选择
谱处理 自动元素鉴定，数字滤波本底扣除，小二乘法经验峰去卷积，
总峰强度，和净峰强度
分析技术 经验系数法和基本参数法，归化，校正曲线图显示
操作系统 微软WindowsXP及更新的版本

尺寸和重量
外形尺寸 宽71.88cm，高41.15cm，深59.18cm
重量 90.7kg

使用要求
电源 100、115或230VAC,50或60hz，功率1000W，真空泵需2000W
电话 遥控诊断和遥控监测需要通过因特网连线

环境要求
温度 O～32℃
湿度 20～80％RH(无冷凝水)

参考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-荧光能谱法测定危险废燃料中痕量元素的标准测试方法
D6052.97 X-荧光能谱法对液体危险废料中元素分析的标准测试方法

主要特点

超大Si(Li) 晶体，具有高的痕量分析的灵敏度，打破lng的检测限壁垒

全数字脉冲处理器技术，死时间达60%， 以及优异的峰背比
高FP无标样分析软件，进行无标样分析，减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室，可容纳300mm400mm的样品
全自动校准，自动监测，自动报警系统，完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
ARL QUANT＇＇X 应用

气溶胶颗粒滤膜
应对RoHS & WEEE 指令分析
刑侦以及痕量分析
营养添加剂
磁性磁性介质、半导体器件、PCB板等镀层镀膜（叠层）测厚及材料分析
高性能，操作简便WinTrace软件

直观
功能强大
安全
操作灵活，方便用户

【应 用】

【样品盘选件】 美国赛黙飞世尔ThermoFisher（美国热电）能量色散X-射线荧光光谱仪（ED-XRF）

技术参数
样品室

样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm
单位盘 样品可大至样品室大小
10位盘(选购件) 带自转机构，样品可大至47mm
20位盘(选购件) 样品可大至31mm
自动和手动盘 为特种样品用的样品盘，选购件
环境 空气、真空(选购件)和充氦(选购件)

激发
X-光管 超高通量，端窗，RH靶，76um铍窗，空气冷却，其它靶可选
X-光发生器 4-50KV，1KV间隔。O.02-2.OmA,0.02mA 间隔
滤光片 7种滤光片加1空位，自动选择
准直器(选购件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五种

检测配置器
Si(Li)电致冷 Si(Li)面积15mm2，分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面积30mm2，分辨率<149 eV

数据采集
数字脉冲处理器 全部参数程序控制，自动能量校正
多道脉冲分析器 32位，4096道多道分析器
数据接口 计算机以太网接口

分析处理器和WinTrace
计算机／打印机 主流计算机和彩色打印机
显示 X-射线能谱，重叠谱比较，峰鉴定标记，分析参数
输出 监视器，图形打印机和调制解调器
自动化 样品室环境，X射线源输出，滤光片选择，多次激发条件，
和样品选择
谱处理 自动元素鉴定，数字滤波本底扣除，小二乘法经验峰去卷积，
总峰强度，和净峰强度
分析技术 经验系数法和基本参数法，归化，校正曲线图显示
操作系统 微软WindowsXP及更新的版本

尺寸和重量
外形尺寸 宽71.88cm，高41.15cm，深59.18cm
重量 90.7kg

使用要求
电源 100、115或230VAC,50或60hz，功率1000W，真空泵需2000W
电话 遥控诊断和遥控监测需要通过因特网连线

环境要求
温度 O～32℃
湿度 20～80％RH(无冷凝水)

参考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-荧光能谱法测定危险废燃料中痕量元素的标准测试方法
D6052.97 X-荧光能谱法对液体危险废料中元素分析的标准测试方法

主要特点

超大Si(Li) 晶体，具有高的痕量分析的灵敏度，打破lng的检测限壁垒

全数字脉冲处理器技术，死时间达60%， 以及优异的峰背比
高FP无标样分析软件，进行无标样分析，减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室，可容纳300mm400mm的样品
全自动校准，自动监测，自动报警系统，完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
ARL QUANT＇＇X 应用

气溶胶颗粒滤膜
应对RoHS & WEEE 指令分析
刑侦以及痕量分析
营养添加剂
磁性磁性介质、半导体器件、PCB板等镀层镀膜（叠层）测厚及材料分析
高性能，操作简便WinTrace软件

直观
功能强大
安全
操作灵活，方便用户

【应 用】

【样品盘选件】 美国赛黙飞世尔ThermoFisher（美国热电）能量色散X-射线荧光光谱仪（ED-XRF）

技术参数
样品室

样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm
单位盘 样品可大至样品室大小
10位盘(选购件) 带自转机构，样品可大至47mm
20位盘(选购件) 样品可大至31mm
自动和手动盘 为特种样品用的样品盘，选购件
环境 空气、真空(选购件)和充氦(选购件)

激发
X-光管 超高通量，端窗，RH靶，76um铍窗，空气冷却，其它靶可选
X-光发生器 4-50KV，1KV间隔。O.02-2.OmA,0.02mA 间隔
滤光片 7种滤光片加1空位，自动选择
准直器(选购件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五种

检测配置器
Si(Li)电致冷 Si(Li)面积15mm2，分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面积30mm2，分辨率<149 eV

数据采集
数字脉冲处理器 全部参数程序控制，自动能量校正
多道脉冲分析器 32位，4096道多道分析器
数据接口 计算机以太网接口

分析处理器和WinTrace
计算机／打印机 主流计算机和彩色打印机
显示 X-射线能谱，重叠谱比较，峰鉴定标记，分析参数
输出 监视器，图形打印机和调制解调器
自动化 样品室环境，X射线源输出，滤光片选择，多次激发条件，
和样品选择
谱处理 自动元素鉴定，数字滤波本底扣除，小二乘法经验峰去卷积，
总峰强度，和净峰强度
分析技术 经验系数法和基本参数法，归化，校正曲线图显示
操作系统 微软WindowsXP及更新的版本

尺寸和重量
外形尺寸 宽71.88cm，高41.15cm，深59.18cm
重量 90.7kg

使用要求
电源 100、115或230VAC,50或60hz，功率1000W，真空泵需2000W
电话 遥控诊断和遥控监测需要通过因特网连线

环境要求
温度 O～32℃
湿度 20～80％RH(无冷凝水)

参考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-荧光能谱法测定危险废燃料中痕量元素的标准测试方法
D6052.97 X-荧光能谱法对液体危险废料中元素分析的标准测试方法

主要特点

超大Si(Li) 晶体，具有高的痕量分析的灵敏度，打破lng的检测限壁垒

全数字脉冲处理器技术，死时间达60%， 以及优异的峰背比
高FP无标样分析软件，进行无标样分析，减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室，可容纳300mm400mm的样品
全自动校准，自动监测，自动报警系统，完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
ARL QUANT＇＇X 应用

气溶胶颗粒滤膜
应对RoHS & WEEE 指令分析
刑侦以及痕量分析
营养添加剂
磁性磁性介质、半导体器件、PCB板等镀层镀膜（叠层）测厚及材料分析
高性能，操作简便WinTrace软件

直观
功能强大
安全
操作灵活，方便用户

【应 用】

【样品盘选件】