磁控溅射镀膜机
价格:¥ 电议
品牌名称:$brandModel.Title型号:JGC-40
原产地:中国大陆
更新时间:2026/10/28 12:21:37
产品摘要:磁控溅射镀膜机JGC-40
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
联系我们
上海非利加实业有限公司
电话:400-090-0956
联系人:蒲经理 (联系我时请说明是在阿仪网看到的!谢谢)
手机:18221374310
邮编:
邮箱:2565589524@qq.com
地址:上海市浦东新区建韵路500号天纳商汇4座1715
详细内容

JGC-40磁控溅射镀膜机
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
相关文章
相关产品