紫外臭氧清洗机（UVO）
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产品型号：

UVO5/UVO5P/UVO5T,UVO9/UVO9P/UVO9T,UVO13/UVO13P/UVO13T

紫外臭氧清洗机（UVO），是一种简单，经济，快速高效的材料表面清洗设备，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）上的有机污染物。CIF推出的紫外臭氧清洗机系列产品采用长寿命UV石英低压汞蒸汽格栅灯，样品台高度可调，可选加热控温，以便达到最佳清洗效果。

一、紫外臭氧清洗机原理：

通过紫外灯发出适当强度的185nm和254nm波长高能紫外线破坏有物分子(污染物)。185nm波长紫外光的光能量能将空气中的氧气(O2)分解成臭氧(O3)，而254nm波长的紫外光的光能量能将O3分解成O2和原子氧(O)， 254 nm紫外线同时激发表面的有机物分子，提高其敏感性，可以被臭氧分子团破坏。在连续进行的光敏氧化反应中，生成的活性原子氧(O)与活化了的有机物(即碳氢化合物)分子发生氧化反应，生成挥发性气体(如CO2，CO, H2O,NO等)逸出材料表面，从而清除粘附在材料表面上的碳和有机污染物，达到清洗的目的。

二、应用领域

u 石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等离子电视屏幕,彩色过滤片,光罩,棱镜,透镜,反射镜,平板电视等。

u 微电子产品的表面清洗：微型马达轴,磁头驱动架,光盘,光电器件,手机摄像头,微型喇叭/受话器震膜,半导体硅片,掩膜版。

u 精密集成电路的表面清洗：液晶显示器ITO,精密电路板,软性电路板接头,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金属基板的清洗,BGA基板与粘结垫的清洗。

u 科研过程的表面清洗及处理：半导体，生物芯片，纳米材料，聚合物，光化学等。

三、设备特点

u UVO基础型系列采用可编程数字控制器，设置操作简单方便，四键操作控制。UVOP、UVOT系列采用5寸彩色触摸屏中英文互动操作界面，设置显示计时时间及加热温度。

u 自动补偿功能，自动恒定光强光密度，不会因为低压汞灯老化光强衰减影响清洗效果。

u 数字显示清洗时间，1-999分钟之间可自行设置清洗时间。

u 任何时间可以手动中断处理过程。

u 自动记录之前清洗参数设置。

u 样品台可控温（可选），控温范围RT-200℃，控温精度0.1℃。

u 顶置下压式铰链开关盖方式，操作简单方便。

u 上置式样品台设计，360度自由放置样品，操作方便。

u 样品台高度可调，通过调节灯与样品之间的间距，可以合理定位样品高度和位置，并可锁定。

u UV石英低压汞蒸汽格栅灯，灯管寿命大约为8000小时。

u 高强度UV灯源，波长185nm和254nm。

u 可累计计时UV格栅灯使用时长，更换提示。

u UV反射罩（长X宽）比UV格栅灯大25mm。

u 双重安全保护，带有安全锁，当清洗腔打开时，系统自动关掉UV灯，并有灯光通断提示。

u 带进&出气口双气路设计。

u 可接入氧气或者臭氧，增加臭氧产量。

u UVO5可选外置臭氧中和器，UVO9、UVO13系列可选外置或者内置臭氧中和器，用于臭氧清除。

u 可根据客户要求定制铝或石英材料真空反应腔。

四、设备参数

注：UVO型基础型样品台不带加热功能，样品台高度可调；UVOP可选配样品台加热功能，样品台高度可调；UVOT标配样品台加热功能，样品台高度可调。可选臭氧中和装置。