CPC-10M等离子清洗机
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产品型号：

CPC-10M

一、应用领域

等离子清洗设备广泛应用于材料学、微电子、半导体、新能源、线路板、LED、微流控、光电太阳能、生物医学等领域，主要用于材料表面进行清洗、改性、刻蚀等目的。

二、设备特点

7寸彩色触摸屏中英文互动操作界面，自动控制监测工艺参数状态，20个配方程序，工艺数据可存储追溯。

PLC工控机控制整个清洗过程，手动、自动两种工作模式。

石英真空舱，真空管路系统采用316不锈钢材质，耐腐蚀无污染。

采用质量流量计，实现对气体输入控制，改变传统浮子流量计控制气体流量不准确问题。

HEPA高效过滤，气体返填吹扫，防止二次污染。

60度倾角操作界面设计，符合人体功能学，操作方便，界面友好。

顶置真空舱，上开盖设计，下压式铰链开关方式，开关盖方便。

采用花洒式多孔进气方式，改变传统等离子清洗机单孔进气不均匀问题。

上置式360度自由水平取放样品托盘设计，符合人体功能学，操作更方便。

有效清洗面积大，可清洗最大直径8吋硅片。

安全保护，舱门打开，自动关闭电源。

三、设备参数

1. 发生器频率：40KHz

2. 功率：0-600 W无极可调

3. 匹配器：自动匹配

4. 激发方式：电容式

5. 气体控制：质量流量计（MFC）或双浮子流量计

6. 舱体尺寸：L300×Φ215mm

7. 舱体材质：不锈钢或石英玻璃

8. 舱体容积：10.8L

9. 有效处理尺寸：L300×W215mm

10. 时间设定：9999秒

11. 真空泵：抽速8 平方米/时

12. 气体稳定时间：1分钟

13. 真空度：100pa以内

14. 电源：AC220V 50/60Hz 752/452W

15. 产品尺寸：L645×W550×H495mm

16. 包装尺寸：L750×W700×H720mm

17. 整机重量：55kg