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GL2011离子减薄仪离子抛光仪

GL2011离子减薄仪离子抛光仪

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价格:¥电议

更新日期:2026/4/13 21:03:10

生 产 地:

产品型号:GL2011

简单介绍:GL2011离子减薄仪离子抛光仪是用高能离子束轰击样品表面、高能离子与样品表面原子发生弹性碰撞、样品表面原子能量增大至高于该原子逸出功时,便飞离样品,从而使样品逐渐减薄。离子减薄仪通常用双枪从样品两侧轰击。样品随着支架旋转,使得离子束轰击均匀。

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详细内容

工作原理

离子减薄制样技术属于离子束加工范畴。其方法是用高能离子束轰击样品表面、高能离子与样品表面原子发生弹性碰撞、样品表面原子能量增大至高于该原子逸出功时,便飞离样品,从而使样品逐渐减薄。离子减薄仪通常用双枪从样品两侧轰击。样品随着支架旋转,使得离子束轰击均匀。

产品描述

GL2011型离子减薄仪由国内顶尖专家精心设计制作,性能稳定,应用广泛,可对金属、非 金属、陶瓷、矿物、半导体、骨骼、牙齿等几乎所有固体材料进行精密减薄处理。

产品特点

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多功能样品台,兼具离子减薄和离子抛光功能

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离子束流自动控制

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监视系统采用聚光光源

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减薄过程无离子束遮挡

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精心设计防污染观察系统

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结构紧凑,体积小,精密

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设计,防误操作系统

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样品洁净,样品信息更为

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真实可靠

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技术参数

产品名称

离子减薄仪

离子束加速电压

0-10KV 连续可调

最大束流密度

大于 200µA/cm

减薄速度 ( 铜)

30µ/h(最大)

样品对离子束的倾角

5-90°(普通台) 0-90°(精细抛光台)

真空度

5×10-3Pa(不送气)

离子束对样品的最小倾角

7°(普通试样台) 2°(抛光试样台)

案例:超薄铝箔离子减薄效果

减薄15微米

减薄20微米


减薄25微米


案例说明:

样品为约100u的铝箔,表面为铝的氧化物。用化学方法或者物理摩擦的方法减薄,都会非常明显的破坏样品表面形貌,甚至改变样品化学成分。

使用GL-2011型离子减薄仪减薄后,在电子显微镜下可以观察到,样品没有任何变形,而且获得完美清晰的样品图像。

客户服务

裕隆时代拥有一支涉及众多领域高素质的应用支持团队,向客户提供完整的实验室解决方案和良好的售后服务。


我们承诺24小时内对客户需求做出反应。

专业勤奋的销售队伍,随时为您提供咨询服务。

经验丰富的专家队伍,为您答疑解惑,拓展您的应用领域,提升客户应用水平。

勤勉敬业的售后团队,向您提供专业及时的售后服务,解决您的后顾之忧。

GL2011离子减薄仪离子抛光仪

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