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供应1KV高压陶瓷电容器,1KV 1PF-0.1UF
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价格:¥电议
更新日期:2026/6/18 9:56:34
生 产 地:中国大陆
产品型号:NDF
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详细内容
1KV高压陶瓷电容器是一种用陶瓷材料做介质在陶瓷表面涂覆一层金属薄膜,再经高温烧结后座位电极而成的电容器,通常用于高稳定振荡中,作为回路旁路电容器等。
一、目的:规范陶瓷圆片电容器的客观品质标准,让客户能详细了解本公司的该类产品,确保本产品能满足客户的最大要求。
二、适用范围:适用于本公司生产的陶瓷圆片电容器。含检验状态、检验项目、标准参数、判断标准、检测方法等内容。
三、检验环境状态:室温25℃+2℃,湿度65%+15%;
四、注意事项:
1. 避免热源对待检品前后的影响;
2. 待检物须放置室温中30分钟以上方可检测其电气特性;
3. 检测完耐电压或绝缘电阻后,须放置室温中12小时后方可检测其容值和其它电气特性;
五、项目规格及检测方式
| 序号 | 项目 | 规格 | 检测方法及条件 | ||
| 1 | 外观、尺寸及标识 | 无异常 | 依外观、尺寸及标识标准,尺寸用游标卡尺检查,外观、标识用目视法检查。 | ||
| 2 | 绝缘电阻 | T.C.类 | 10000MΩMIN | 端子间施加额定工作电压,500VDC以上以500VDC测试,测试时间为60秒以内。 | |
| HIK类 | 10000MΩMIN | ||||
| 半导体类 | 100MΩ×UFMIN | ||||
| 3 | 耐电压 | 无破裂短路等明显损坏异状 | 端子间施加额定电压施压1-5秒,充放电电流为50mA以下。 W.V.<500VDC T.V=250%×W.V 1000VDC≧W.V.≥500VDC T.V=200%×W.V W.V.=2KVDC T.V=175%×W.V W.V.>2KVDC T.V=150%×W.V | ||
| 4 | 静电容量 | 在标准允许误差内 | 使用频率: T.C.:≤1000PF检测频率用1MHz >1000PF检测频率用1KHz HIK、半导体类:检测频率用1KHz 使用电压: T.C. 、HIK类用1.0VRMS 半导体类用0.1VRMS | ||
| 5 | Q值和散逸因素DF | T.C.类 | C<30PF:Q≥400+20×C | 测定条件与静电容量之规定相同 | |
| C≥30PF:Q≥1000MIN | |||||
| HIK类 | Y5E、Y5P、Z5U、Y5U:DF≤2.5% | ||||
| Z5V、Y5V:DF≤5% | |||||
| 半导 体类 | Y5P、Y5U:DF≤5% | ||||
| Y5V:DF≤7.5% | |||||
| 序号 | 项目 | 规格 | 检测方法及条件 | |
| 6 | 温 度 特 性 | T.C.类: C≦4PF TC ±250PPM/℃ C≦9.9PF TC ±120PPM/℃ C≧10PF TC ±60PPM/℃ SL TC P350-N1000 | 以25℃之容量值为基准,在(-)、(+)两方最大温度之容量偏差,以变化率表示。 试验步聚见下表:
温度特性容量变化率的计算公式见下表 步骤试验温度温度代号容量代号125±2℃T1C12最低温度T2C2325±2℃T1C14最高温度T2C2525±2℃①T.C.类(PPM) T.C.= C2-C1 ×106 C1(T2-T1) ②HIK、半导体类 T.C.= C2-C1 ×100% C1 | |
| HIK、半导体类: Y5E:±4.7% Y5P:±10% Y5U、Z5U:+22%-56% Y5V、Z5V:+22%-82% | ||||
| 7 | 焊 锡 附 着 性 及 焊 锡 耐 热 性 | 外观 | 端子引线周围至少75%的面积均匀附锡,且本体无破裂等损坏现象。 | 将元件端子线浸入温度为240℃的溶锡内,端子线浸至离本体边沿2.0-3.0mm处,并保持3+1/-0秒。试验前,将电容器放置85+3-0℃中预热,5分钟后再进行焊锡试验;试验后,电容器须放置室温中24小时后方可进行电气特性的测试。 其电气特性的测试方法: 1.静电容量及散逸因素 使用频率: T.C.:≤1000PF检测频率用1MHz >1000PF检测频率用1KHz HIK、半导体类:检测频率用1KHz 使用电压: T.C. 、HIK类用1.0VRMS 半导体类用0.1VRMS 2.绝缘电阻: 端子引线间加额定直流电压施压60秒后读出测试仪表所显示之值; 3.耐电压: 端子间加额定直流电压施压1-5秒,充放电电流为50mA以下。 W.V.<500VDC T.V=250%×W.V 1000VDC≧W.V.≥500VDC T.V=200%×W.V W.V.=2KVDC T.V=175%×W.V W.V.>2KVDC T.V=150%×W.V |
| 静电容量变化率 | T.C.类:±5%或±0.5PF | |||
| HIK、半导体类: Y5E:±10%;Y5P:±15%; Y5U、Z5U:±25% Z5V、Y5V:±30% | ||||
| Q值或DF | T.C.类: C<30PF:Q≥400+20×C C≥30PF:Q≥1000MIN | |||
| HIK类: Y5E/Y5P/Z5U/Y5U:DF≤2.5% Z5V、Y5V:DF≤5% | ||||
| 半导体类: Y5P、Y5U:DF≤5% Y5V:DF≤7.5% | ||||
| 绝缘电阻 | T.C.类:10000MΩMIN | |||
| HIK类:10000MΩMIN | ||||
| 半导体类:100MΩ×UFMIN | ||||
| 耐电压 | 本体无损伤及无短路现象发生。 | |||
| 8 | 耐 湿 负 荷 | 外观 | 无显著之异常现象 | 计划一: 在温度40±2℃、相对湿度90-95%的状态下,连续施加直流额定电压(充放电电流为50mA以下)500+24-0小时; 计划二: 在温度60±2℃、相对湿度95-97%的状态下,连续施加直流额定电压(充放电电流为50mA以下)250+24-0小时; 试验后置于室温中: T.C.需放置24小时以上方可测定其电气特性; HIK、半导体类规格需放置48小时以上方可测定其电气特性; 其电气特性的测试方法: 1.静电容量及散逸因素 使用频率: T.C.:≤1000PF检测频率用1MHz >1000PF检测频率用1KHz HIK、半导体类:检测频率用1KHz 使用电压: T.C. 、HIK类用1.0VRMS 半导体类用0.1VRMS 2.绝缘电阻: 端子引线间加额定直流电压施压60秒后读出测试仪表所显示之值; |
| 静电容量变化率 | T.C.类:最大变化率为±7.5或±0.75PF; | |||
| HIK、半导体类: Y5E最大变化率为±10%; Y5P最大变化率为±15%; Z5U、Y5U最大变化率为±20% Z5V、Y5V最大变化率为±30% | ||||
| Q值或 散逸因素DF | T.C.类: C<10PF:Q≥200+10×C 10PF≤C≤30PF Q≥275+2.5×C C≥30PF:Q≥350MIN | |||
| HIK类: Y5E/Y5P/Z5U/Y5U:DF≤5% Z5V、Y5V:DF≤7.5% | ||||
| 半导体类: Y5P、Y5U:DF≤7.5% Y5V:DF≤10% | ||||
| 绝缘电阻 | 最小值为500MΩ或25MΩ×UF取最小者 | |||
| 9 | 高 温 负 荷 (寿命 试验) | 外观 | 无显著之异常现象 | 计划一: 在试验温度下连续施加2倍W.V.(充放电电流为50mA)1000+48-0小时,试验温度85℃±3℃; 计划二: 在试验温度下连续施加2.5倍W.V.(充放电电流为50mA)500+48-0小时,试验温度100℃±3℃; 试验后置于室温中: T.C.需放置24小时以上方可测定其电气特性; HIK、半导体类规格需放置48小时以上方可测定其电气特性; 其电气特性的测试方法: 1.静电容量及散逸因素 使用频率: T.C.:≤1000PF检测频率用1MHz >1000PF检测频率用1KHz HIK、半导体类:检测频率用1KHz 使用电压: T.C. 、HIK类用1.0VRMS 半导体类用0.1VRMS 2.绝缘电阻: 端子引线间加额定直流电压施压60秒后读出测试仪表所显示之值; |
| 静电容量变化率 | T.C.类:最大变化率为±7.5或±0.75PF; | |||
| HIK、半导体类: Y5E最大变化率为±10%; Y5P最大变化率为±15%; Z5U、Y5U最大变化率为±20% Z5V、Y5V最大变化率为±30% | ||||
| Q值或 散逸因素DF | T.C.类: C<10PF:Q≥200+10×C 10PF≤C≤30PF Q≥275+2.5×C C≥30PF:Q≥350MIN | |||
| HIK类: Y5E/Y5P/Z5U/Y5U:DF≤5% Z5V、Y5V:DF≤7.5% | ||||
| 半导体类: Y5P、Y5U:DF≤7.5% Y5V:DF≤10% | ||||
| 绝缘电阻 | 最小值为500MΩ或25MΩ×UF取最小者 | |||
| 10 | 端子强度 | 抗拉强度 | 导线不断裂,电容器本体不破损。 | 垂直固定被测物本体,引线向下,负荷施力方向为端线引出方向,施加负荷为1.0 kgf,时间为5秒。 |
| 变曲强度 | 固定被测物体,施加1kgf于端子引线间并变曲90度,回复原来之位置,并反向变曲90度,1次弯曲时间为5秒。 |


