MI4050是高效率的聚焦离子束设备,它使用了全新的电子光学系统,具有的SIM图像分辨率,并且TEM样品制备效果优异。MI4050广 泛用于截面观察、微电路修复、纳米图像制备和纳米沉积等。
主要特点:
1.高效率、高质量加工,二次离子分辨率: 4nm@30kV
2.高分辨、高衬度SIM成像
3.全自动TEM样品制备
4.大尺寸样品加工
应用域:
1.纳米材料微加工
2.导体及电子元器件材料
3.生命科学
MI4050是高效率的聚焦离子束设备,它使用了全新的电子光学系统,具有的SIM图像分辨率,并且TEM样品制备效果优异。MI4050广 泛用于截面观察、微电路修复、纳米图像制备和纳米沉积等。
主要特点:
1.高效率、高质量加工,二次离子分辨率: 4nm@30kV
2.高分辨、高衬度SIM成像
3.全自动TEM样品制备
4.大尺寸样品加工
应用域:
1.纳米材料微加工
2.导体及电子元器件材料
3.生命科学
MI4050是高效率的聚焦离子束设备,它使用了全新的电子光学系统,具有的SIM图像分辨率,并且TEM样品制备效果优异。MI4050广 泛用于截面观察、微电路修复、纳米图像制备和纳米沉积等。
主要特点:
1.高效率、高质量加工,二次离子分辨率: 4nm@30kV
2.高分辨、高衬度SIM成像
3.全自动TEM样品制备
4.大尺寸样品加工
应用域:
1.纳米材料微加工
2.导体及电子元器件材料
3.生命科学