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MI4050日立新型FIB系统#产品讲堂

点击次数:3486 发布时间:2021/1/26 14:45:21

MI4050是高效率的聚焦离子束设备,它使用了全新的电子光学系统,具有的SIM图像分辨率,并且TEM样品制备效果优异。MI4050广 泛用于截面观察、微电路修复、纳米图像制备和纳米沉积等。
主要特点:

1.高效率、高质量加工,二次离子分辨率: 4nm@30kV

2.高分辨、高衬度SIM成像

3.全自动TEM样品制备

4.大尺寸样品加工

应用域:

1.纳米材料微加工

2.导体及电子元器件材料

3.生命科学



MI4050是高效率的聚焦离子束设备,它使用了全新的电子光学系统,具有的SIM图像分辨率,并且TEM样品制备效果优异。MI4050广 泛用于截面观察、微电路修复、纳米图像制备和纳米沉积等。
主要特点:

1.高效率、高质量加工,二次离子分辨率: 4nm@30kV

2.高分辨、高衬度SIM成像

3.全自动TEM样品制备

4.大尺寸样品加工

应用域:

1.纳米材料微加工

2.导体及电子元器件材料

3.生命科学


MI4050是高效率的聚焦离子束设备,它使用了全新的电子光学系统,具有的SIM图像分辨率,并且TEM样品制备效果优异。MI4050广 泛用于截面观察、微电路修复、纳米图像制备和纳米沉积等。
主要特点:

1.高效率、高质量加工,二次离子分辨率: 4nm@30kV

2.高分辨、高衬度SIM成像

3.全自动TEM样品制备

4.大尺寸样品加工

应用域:

1.纳米材料微加工

2.导体及电子元器件材料

3.生命科学


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