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原位纳米粒度监测仪
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价格：￥电议
更新日期：2026/1/15 10:11:28
生 产 地：欧洲
产品型号：
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详细内容
DLS动态光散射技术是非常成熟的N3表征技术，可用于测量纳米体系混悬液的粒度及粒度分布。稳定的激光光源照射布朗运动的纳米颗粒，将致使散射光强发生波动，光电二极管检测器获得这些波动后，通过斯托克斯-爱因斯坦方程可得出粒度信息。DLS只需少量样品即可完成分析，快速、精确、重复性好，是目前应用最广泛的N3粒度测量方法。Vasco Kin原位纳米粒度监测仪以广为熟知的DLS动态光散射技术为基石,集成了稳定的光学单元、灵敏的光电二极管检测器和灵活的非浸入式探头,结合专用的分析软件和数学模型，是一款性能的、针对各类型纳米体系中的颗粒尺寸原位监测系统。
与传统DLS相比，Vasco Kin原位纳米粒度监测仪显著增大了样品浓度范围和粒度的测量范围。Vasco Kin原位纳米粒度监测仪不但保持了传统DLS动态光散射仪器的高灵敏度和宽适应性，还开创性地采用了非浸入式远程探头，将DLS技术带入原位过程监测的广泛应用场景，并增加了创新的时间关联功能。
原位纳米粒度监测仪特点：
流体动力学分析
高速数据采集，实时数据处理
集成化程度高，无运动部件，维护和使用成本低
模块化设计，可更换探头，一机，一机多用
测试灵活，可根据样品浓度及透光性调整工作距离和散射角
时间切片，可选取监测曲线中的任意时间段进行粒径分析
超低延时，无需频繁采样，原位监测纳米颗粒的变化过程
操作简便，非浸入式探头，无需批量稀释，无需样品预处理
适用性好，配备背散射技术，原浓或深色的不透明样品同样适用
应用领域：
实时监控纳米颗粒合成工艺、提高悬浮稳定性等
原位测量(在反应器、高压灭菌器、密封小瓶等装置内部进行测量)
将粒度测量与其他光谱法(X 射线小角散射、小角中子散射、拉曼光谱法、紫外-可见光谱法等) 相结合
