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涂层测厚仪（两用型）源头厂家222

价格：￥电议

品牌名称：畅风型号：222 原产地：中国大陆更新时间：2026/10/12 12:31:17

产品摘要：涂层测厚仪（两用型）源头厂家该涂层测厚仪采用磁性和电涡流两种测量方法，可检测磁性金属基体上非磁性覆盖层的厚度，以及非磁性金属基体上非导电的绝缘覆盖层的厚度。本仪器能应用在电镀、防腐、化工、汽车、造船、轻工、商检等检测领域。

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涂层测厚仪（两用型）源头厂家

涂层测厚仪

该涂层测厚仪采用磁性和电涡流两种测量方法，可检测磁性金属基体上非磁性覆盖层的厚度，以及非磁性金属基体上非导电的绝缘覆盖层的厚度。

本仪器能应用在电镀、防腐、化工、汽车、造船、轻工、商检等检测领域。

既可用于实验室，也可用于工程现场，它是检测行业常配备仪器。 222涂层测厚仪（双用）.png

【技术参数】

项目名称		Leeb222
测头类型		F1和N1
测量原理		磁感应和电涡流
测量范围		0 ~ 1250um
分辨率		0.1um
示值误差	一点校准	±（3%H+1）um
	二点校准	±[（1~3）%H+1]um
测试条件	最小曲率半径	凸1.5mm 凹9mm
	最小面积直径	φ7mm
	基本临界厚度	0.5mm
工作环境	温度	0 ~ 40℃
	湿度	20% ~ 90%
电源		AAA碱性电池2节
电压		3V
工作时间		100小时
外形尺寸		1156825 mm
重量		200g
外壳材质		塑料外壳
标准配置		主机、标准试片、基体、F1和N1探头、碱性电池
可选配件		标准试片、探头
PC通讯		有

涂层测厚仪（两用型）源头厂家涂层测厚仪11.jpg

Coating Thickness Gauge
This coating thickness gauge employs magnetic induction and eddy current measurement principles to detect the thickness of non-magnetic coatings on magnetic metal substrates and non-conductive insulation coatings on non-magnetic metal substrates.
Applications:
Widely used in electroplating, anti-corrosion, chemical, automotive, shipbuilding, light industry, commercial inspection, and other testing fields. Suitable for both laboratory and fieldwork, it is a standard instrument in inspection industries.
Technical Parameters

Parameter	Leeb222
Probe Type	F1 (magnetic) / N1 (eddy current)
Measurement Principle	Magnetic induction / Eddy current
Measurement Range	0–1250 µm
Resolution	0.1 µm
Accuracy	• Single-point calibration: ±(3% H + 1) µm • Two-point calibration: ±[(1–3% H) + 1] µm
Test Conditions	• Minimum radius of curvature: Convex 1.5 mm / Concave 9 mm • Minimum area diameter: Φ7 mm • Basic critical thickness: 0.5 mm
Operating Environment	• Temperature: 0–40°C • Humidity: 20%–90%
Power Supply	2 × AAA alkaline batteries
Voltage	3 V
Working Time	100 hours
Dimensions	115 × 68 × 25 mm
Weight	200 g
Housing Material	Plastic casing
Standard Configuration	Main unit, standard test pieces, base material, F1/N1 probes, alkaline batteries
Optional Accessories	Standard test pieces, probes
PC Communication	Available

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