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KT-Z1650CVD  小型真空钨舟热蒸镀仪

KT-Z1650CVD 小型真空钨舟热蒸镀仪

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更新日期:2023/7/13 19:41:12

生 产 地:

产品型号:KT-Z1650CVD

简单介绍:小型真空钨舟热蒸镀仪KT-Z1650CVD是一款小型多功能镀膜仪,额定1800度高温,自动样品挡板,靶台旋转,触摸屏多段控制,工艺储存等功能。正空蒸发镀膜包括以下基本过程:(1)加热蒸发过程:包括由凝

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详细内容

小型真空钨舟热蒸镀仪KT-Z1650CVD

是一款小型多功能镀膜仪,额定1800度高温,自动样品挡板,靶台旋转,触摸屏多段控制,工艺储存等功能。

正空蒸发镀膜包括以下基本过程:
(1)加热蒸发过程:包括由凝聚相转变为气相的过程,每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。
(2)气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输,即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。

(3)蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发,凝聚,成核,核生长,形成连续的膜。由于基板温度远

低于基板温度远低于蒸发源温度,因此,气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。


637853680603154055897.jpg


编辑

以下是不同真空度 不同镀膜时间镀铜样品图

637858771737832260197.png 原样品没有镀膜 637858771732996198687.png 115A 100秒 机械泵

637858771732840196319.png115A 100秒 分子泵抽12分钟 637858771732684194803.png 115A 120秒 分子泵抽20分钟


真空度越高 越不易氧化 越接近金属本色


小型真空钨舟热蒸镀仪KT-Z1650CVD

控制方式

7寸人机界面 手动 自动模式切换控制

加热方式

数字式功率调整器

镀膜功能

0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序

最大功率

≤1200W

最大输出电压电流

电压≤12V 电流≤120A

真空度

机械泵 ≤5Pa(5分钟) 分子泵≤10^-3Pa

挡板类型

电控

真空腔室

石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm

样品台

可旋转φ62 (最大可安装φ50基底)

样品台转速

8转/分钟

样品蒸发源调节距离

70-140mm

蒸发温度调节

≤1800℃

支持蒸发坩埚类型

钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳

预留真空接口

KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口

可选配扩展

机械真空泵(可抽真空 5分钟<5Pa)

数显真空计(测量范围大气压到0.1Pa)

分子泵机组(可抽真空20分钟≤5x10-3Pa)


KT-Z1650CVD,,小型真空钨舟热蒸镀仪

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