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工厂CX1020-0011

工厂CX1020-0011

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更新日期:2026/4/20 18:30:08

生 产 地:其它

产品型号:原装进口

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02IG内部结构
IG有三个端子(集电、发射和栅)都附有金属层。然而,栅端子上的金属材料具有化硅层。


IG结构是一个四层半导体器件。四层器件是通过组合PNP和NPN晶体管来实现的,它们构成了PNPN排列。

如上图所示,靠近集电区的层是 (p+) 衬底,即注入区;在它上面是 N 漂移区域,包括 N 层。注入区将大部分载流子(空穴电流)从 (p+) 注入 N- 层。

漂移区的厚度决定了 IG 的电压阻断能力。

漂移区域的上面是主体区域,它由 (p) 基板组成,靠近发射,在主体区域内部,有 (n+) 层。

注入区域和 N 漂移区域之间的连接点是 J2。类似地,N-区域 和 主体区域之间的结点是结点 J1。

注意:IG 的结构在拓扑上类似于“MOS”栅的晶闸管。但是,晶闸管动作和功能是可的,这意味着在 IG 的整个器件工作范围内只允许晶体管动作。IG 比晶闸管更可取,因为晶闸管等待过零的快速切换。

KJ3007X1-EA1

KJ3009X1-BA1

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工厂CX1020-0011

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UAD215A10530V

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UAD215A10630V

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PPD113B01-20-111000

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PPD113B01-25-111001

通信卡件:ACM21 ACM22 ACM71

电缆:YCB111 YCB141 YCB149 YCB118 YCB148 YCB301 ATA4S ATA4D ATK4A ATT4S ATR8S ATT4D ATR8D ATI3S ATI3D ATI3A ATB3A

打印:YPR120

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AFV10D AFV10S ANB10D ANB10S ANR10D ANR10S PW602 PW604 AEP7D AEP9D PW482 PW442 PW444 PW484 CP401 CP451 SB401 EB401

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