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公司新闻
半导体行业的“隐形杀手”：水中氟离子为何必须严检？
点击次数：1507发布时间：2026/2/6 8:31:27
半导体芯片制造中，高纯度水是核心辅料，贯穿晶圆清洗、蚀刻等全流程。而水中微量氟离子，堪称影响产品品质、威胁环境的“隐形杀手”，其精准检测是行业必备的技术环节。 氟离子是半导体生产的必然工艺副产物。氢氟酸等含氟试剂用于晶圆蚀刻、清洗，未完全反应的氟化物会混入废水，成为氟离子主要来源。 此外，冷却剂、清洗剂等辅料也可能含氟，导致氟离子在水循环系统累积。无论是工艺废水还是回用超纯水，氟离子都需严格管控。 纳米级制程对水质要求极高，低浓度氟离子也会引发问题：腐蚀晶圆金属薄膜与绝缘层，导致电路缺陷、良品率下降；同时干扰光刻等后续工艺精度。 回用水中氟离子超标会形成“污染循环”，先进晶圆厂通常将其内控浓度设为0.1mg/L以下，远超常规排放标准。 氟化物有毒且易累积，不当排放会污染水土、危害人体健康。国内外已出台严格标准，管控半导体行业氟离子排放。 国标GB39731-2020规定，氟化物直接排放限值10mg/L、间接排放20mg/L；地方标准更严，以上海DB31/199-2018为例，直接排放限值收紧至8mg/L，还强制在线监测设备具备校准、数据存储及远程传输功能，超标将面临重罚。 其中分光光度法、离子色谱法因精度或成本问题，在半导体行业较少用于量产工艺监测，仅作特殊样品验证。 PM8202I控制器采用防水防气全密封外壳,搭配Bsens710可连续在线监测水体中氟离子浓度的变化。可应用于半导体、太阳能材料、含氟电镀等行业氟离子测量。 戈普仪器在线氟离子水质分析仪PM8202I搭配氟离子电极Bsens710，可对水中氟离子进行实时的稳定监测，协助企业降低生产风险、为工艺调整提供即时数据，助力企业实现降本增效与绿色生产双赢。
PM8202I在某半导体厂的实际应用
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