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更新时间:2026/10/9 13:03:25关注度:659
关键词标签:光刻胶,进口光刻胶,试验光刻胶
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它的活性成分为 γ-氨基丙基三乙氧基硅烷(APTES),核心作用是增强聚酰亚胺(PI)、光敏聚酰亚胺(PSPI)等涂层与硅片、二氧化硅、氮化硅基底之间的粘附力,解决高温固化后膜层剥离(delamination)的行业共性痛点,是HD系列PI/PSPI产品线的配套辅助材料。
使用形式:VM-651是浓缩品,需用去离子水稀释至0.01%~0.1%的工作浓度后使用(配套成品工作液型号为VM-652)。
工艺方法:将稀释液 Flood 涂覆在基底表面,停留20秒后2000~3500rpm旋干,可选110℃~130℃短时烘烤增强效果,处理后基底可在24小时内涂覆PI材料。
性能表现:正确使用可使聚酰亚胺涂层在高压蒸煮测试(PCT)中维持400小时以上的粘附力,仅需单分子层即可实现Si-O键合锚固,对硅 dioxide基底的效果优于氮化硅。
部分MEMS、微流控工艺中会将其与SU-8、厚负胶混淆,或因它属于HD MicroSystems聚酰亚胺产品体系的配套品,被非专业渠道错误归类入光刻胶清单。若您需要的是厚膜负性紫外光刻胶,可核对是否为SU-8系列或HD系列PSPI(如HD-4100/HD-8820)的产品型号笔误。
VM-651需室温密封储存,避免接触水汽导致预聚合,开封后建议尽快配制工作液,配制后的稀溶液需在24小时内使用,否则会因水解失效导致增粘效果下降