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厦门芯磊贸易有限公司

第7年

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HD-720光刻胶

  • 参考价:咨询
  • 型号:
  • 品牌: $brandModel.Title
  • 所属地区:中国大陆
  • 原产地:福建-厦门市
  • 产品摘要:经过深度核实,HD-720(以典型代表型号 HD-7204​ 为例)同样是出自 HD Microsystems(由日本 Resonac 和美国杜邦合资成立)旗下的光敏聚酰亚胺(PSPI)产品矩阵。

产品完善度:

更新时间:2026/10/9 13:03:25关注度:722

关键词标签:光刻胶,进口光刻胶,试验光刻胶

支付方式:

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HD⁻⁷20 系列(如 HD⁻⁷204、HD⁻⁷110)的配方设计极大地降低了材料的杨氏模量(变软了),同时抛弃了传统聚酰亚胺中常用的剧毒溶剂 NMP。这使得它成为了封装领域的“应力海绵”:

  • 晶圆级扇出型封装 (Fan-out WLP) 的 RDL 层:在再布线层作为介电层或应力缓冲层,其极低的模量可以有效吸收和释放热量,大幅降低大面积晶圆在受热时的翘曲变形。


  • 2.5D/3D 封装与 HBM 堆叠:在中介层或多芯片堆叠结构中,不同材质(硅、铜、 filler)的热膨胀系数差异巨大。HD⁻⁷20 的高断裂伸长率(>50%)赋予了它极强的“抗疲劳”能力,能承受无数次的温度循环而不产生裂纹。


  • AI 芯片与射频前端芯片:这类芯片对信号完整性要求极高,HD⁻⁷20 不仅介电性能优良,其的表面平坦化能力(Embedded Flatness)能为高层数布线提供一个绝对平整的“地基”。


2. 关键技术指标 (vs HD-4100 及 HD-8820)

相比于传统的负性或正性 PSPI,HD⁻⁷20 系列在环保性、柔韧性和工艺宽容度上实现了跨代式的提升:

性能指标

HD⁻⁷204 (新一代)

HD-4100 (经典负性)

HD-8820 (经典正性)

差异解读

感光类型

负性感光 (Negative)

负性感光

正性感光

保留负胶高感度的优势,同时克服了其脆性

显影工艺

溶剂显影 (如环戊酮)

溶剂显影

水系显影 (TMAH)

溶剂显影对细小间隙的冲洗能力更强

固化温度

200 ℃ ~ 300 ℃

250 ℃ ~ 390 ℃

250 ℃ ~ 300 ℃

低温固化能力更强,极大缓解晶圆翘曲

拉伸弹性模量

极低 (约 2.5 - 2.9 GPa)

较高 (约 3.0 - 3.5 GPa)

中等 (约 2.8 - 3.2 GPa)

“更软”,应力释放能力碾压传统材料

断裂伸长率

极高 (>50%)

中等 (约 30% - 40%)

较低 (约 15% - 20%)

韧性,CTE 匹配性更好

环保特性

无 NMP 配方

含 NMP

无 NMP

符合最严苛的 REACH 环保法规,厂房排废压力骤减

典型膜厚

5 µm ~ 15 µm

3 µm ~ 12 µm

4 µm ~ 10 µm

覆盖从中层到表层的布线需求








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