EB200 系列电子束光刻胶EB200-012

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品牌： $brandModel.Title
所属地区：中国大陆
原产地：-
产品摘要：EB200 系列正性电子束光刻胶主要应用于射频芯片、光电子芯片、掩膜制作等域，
用于亚微米光刻工艺中图形掩膜层制作，EB200 系列产品具有高分辨率、高感度、抗刻蚀等
优点，产品技术、原材料已实现自主可控

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更新时间：2026/10/9 13:03:11关注度：556

关键词标签：EB200-030电子束光刻胶EB200-012

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产品详情

EB200 系列正性电子束光刻胶主要应用于射频芯片、光电子芯片、掩膜制作等域，

用于亚微米光刻工艺中图形掩膜层制作，EB200 系列产品具有高分辨率、高感度、抗刻蚀等

优点，产品技术、原材料已实现自主可控。EB200 series positive E-beam resist is used in

sub-micron lithography process for RF chip, optoelectronic chip, mask layer production etc., EB200 series products have high resolution，sensitivity ａnd dry etch resistance. 产品性能

 膜厚范围:30-500nm；

 高分辨率（20nm）；

 高感度~60μC/cm2 (Dose to clear)；

 良好的工艺宽容度；

 耐刻蚀性能；

 安全溶剂;

FEATURES

 The thickness range：30-500nm;

 High resolution (20nm);

 High Sensitivity ~60μC/cm2；

 Good process margin latitude;

 Good dry etch resistance ;