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连续式四探针片电阻及光学膜厚测量设备
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价格：￥电议
更新日期：2026/9/9 16:20:43
生 产 地：
产品型号：连续式四探针片电阻及光学膜厚测量设备
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黎**
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相关标签：连续式四探针片电阻及光学膜厚测量设备
详细内容
独特设计, 片电阻不受针尖距离影响
产品特点：
多种型号以供选择:
自动上下片(Cassette to cassette, C2C)
室温至100°C 的测量(更高可选)
可添加并整合于多腔式的集束型架构设备(cluster tool)
行业应用：
亦可在连续式设备内加入四探针片电阻及光学膜厚测量, 适合薄膜太阳能(铜铟镓硒, CIGS)及平板显示行业
技术参数：
基材尺寸:
450mm晶圆 (样品台旋转)
370 x 470mm 长方形基底 (XY样品台)
连续式设备可以度身订做, 没有尺寸限制
片电阻测量适合金属薄膜、铜铟镓硒、非晶硅(硅)、碲化镉、钼、透明导电薄膜(AlZnO2)、掺杂之后的硅(硅)、硅锗及锗
0.1 – 100,000 单位面积奥姆值 (更高可选)
短时间重复性: 0.1% (21次连续测量同一点, 一个公差值)
长时间重复性.0.2% (每天21次连续测量同一点, 连续5 天, 一个公差值)
可完美地整合于连续式(INLINE)的生产线内, 而收集的测量数据可自动送到SCADA系统
光学膜厚测量功能可选
测量光斑<1mm
波长: 380-1050nm
可测量膜厚: 15-50nm, 最多可达250nm
短时间重复性: ~0.1nm
长时间重复性:: ~0.1nm
准确度: 0.4% or 0.1nm
连续式四探针片电阻及光学膜厚测量设备
