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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) (尺寸 8.0 x 8.3 mm)S2D-24B3-0808-150-P

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品牌名称：$brandModel.Title型号：S2D-24B3-0808-150-P 原产地：中国大陆更新时间：2026/9/21 9:09:18

产品摘要：产品总览 LightSmyth提供了大量的纳米加工单晶硅衬底，为工业和学术机构提供了一个低成本的纳米光子学研究入口。基底可用于光学、光子学、生物学、化学、物理学（如中子散射）、聚合物研究、纳米印迹、微流体学等领域。

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产品总览

LightSmyth提供了大量的纳米加工单晶硅衬底，为工业和学术机构提供了一个低成本的纳米光子学研究入口。基底可用于光学、光子学、生物学、化学、物理学（如中子散射）、聚合物研究、纳米印迹、微流体学等领域。如果需要，基板可以涂上金属或介质涂层。大多数地表特征具有略微梯形的横截面轮廓，具有直线平行的台地和沟渠。晶格状结构也可用。提供了许多特征尺寸和沟槽深度。基板的扫描电镜图像可以在装运前拍摄，以验证准确的轮廓。

产品特点

Nanopatterned Silicon Stamps

II-VI offers a large variety of nanomachined single crystal silicon substrates providing a low-cost entry into nanophotonics research for industry and academic institutions. The substrates may be used in a variety of applications in optics, photonics, biology, chemistry, physics (e.g. neutron scattering), polymer research, nanoimprinting, microfluidics and others. If desired, the substrates can be coated with metallic or dielectric coating. Most of the surface features have slightly trapezoidal cross-section profiles with straight parallel mesas and trenches. Lattice-like structures are available as well. A number of feature sizes and trench depth is available. SEM images of the substrates may be taken prior to shipment to verify the exact profile.

Dimensions shown in the table represent target value. Period has accuracy better than 0.5% while groove depth and the width of line and space may differ from the target values by 15%. SEM are given for illustration purposes. If more precise dimensional information is required, we may provide an SEM of the specific piece of nanostamp you order as an optional service

通用参数

24B3 SEM.jpg

(LightSmyth Nanopatterned Silicon Stamps 纳米图案硅片)

描述	数据
基材宽度高度误差	标准公差±0.2 mm
净孔径（CA）	距基板边缘0.5 mm（图案可延伸至基板边缘）
基底厚度	0.675 ± 0.050 mm
CA的表面质量	P／N以“p”结尾：划痕/挖：最大划痕宽度，最大最大直径。可提供高达20/10的规格
CA的表面质量	P/N以“-S”结尾：由于表面质量而打折的等级。至少有80%的可用面积。可能出现80/100划痕/挖痕/颗粒和不规则基底形状
CA外表面质量	无要求
Material材料	单晶硅，反应离子刻蚀

2D Nanostamps

Part Number	周期 Period(nm)	晶体类型 Lattice Type	槽深 Groove Depth(nm)	特征宽度 Feature Width(nm)	Size(mm)
S2D-18B2-0808-350-P	600	Rect Post	350	275	8.0 x 8.3
S2D-18B3-0808-350-P	700	Rect Post	350	350	8.0 x 8.3
S2D-18C2-0808-350-P	600	Hex Post	350	240	8.0 x 8.3
S2D-18C3-0808-150-P	700	Hex Post	150	290	8.0 x 8.3
S2D-18C3-0808-350-P	700	Hex Post	350	290	8.0 x 8.3
S2D-18D3-0808-350-P	700	Hex Hole	350	200	8.0 x 8.3
S2D-24B2-0808-150-P	600	Rect Post	150	195	8.0 x 8.3
S2D-24B2-0808-350-P	600	Rect Post	350	195	8.0 x 8.3
S2D-24B3-0808-150-P	700	Rect Post	150	260	8.0 x 8.3
S2D-24B3-0808-350-P	700	Rect Post	350	260	8.0 x 8.3
S2D-24C2-0808-150-P	600	Hex Post	150	165	8.0 x 8.3
S2D-24C2-0808-350-P	600	Hex Post	350	165	8.0 x 8.3
S2D-24C3-0808-150-P	700	Hex Post	150	220	8.0 x 8.3
S2D-24D2-0808-150-P	600	Hex Hole	150	180	8.0 x 8.3
S2D-24D2-0808-350-P	600	Hex Hole	350	180	8.0 x 8.3
S2D-24D3-0808-150-P	700	Hex Hole	150	290	8.0 x 8.3
S2D-24D3-0808-350-P	700	Hex Hole	350	290	8.0 x 8.3

Linear Nanostamps (line+space)

型号	周期间隔(nm)	槽深 (nm)	占空比	线宽 (nm)	尺寸 (mm)	SEM link1	Top down
SNS-C72-1212-50-P	139	50	50%	69.5	12.5×12.5×0.7	X-sec	Top down
SNS-C72-2525-50-P	139	50	50%	69.5	25×25×0.7 5	X-sec	Top down
SNS-C36-1212-110-P	278	110	50%	139	12.5×12.5×0.7	X-sec	Top down
SNS-C24-1212-110-P	416.6	110	50%	208	12.5×12.5×0.7	X-sec	Top down
SNS-C20-0808-150-D45-P	500	150	44%	220	8×8.3×0.7		Top down
SNS-C20-0808-350-D45-P	500	350	44%	220	8×8.3×0.7		Top down
SNS-C20-0808-150-D60-P	500	150	60%	300	8×8.3×0.7		Top down
SNS-C20-0808-350-D60-P	500	350	60%	300	8×8.3×0.7		Top down
SNS-C18-2009-110-D50-P	555.5	110	50%	278	20×9×0.7	X-sec	Top down
SNS-C18-2009-140-D50-P	555.5	140	50%	278	20×9×0.7	X-sec	Top down
SNS-C18-2009-110-D29-P	555.5	110	29%	158	20×9×0.7	X-sec	Top down
SNS-C18-2009-140-D29-P	555.5	140	29%	158	20×9×0.7	X-sec	Top down
SNS-C16.7-0808-150-D45-P	600	150	43%	260	8×8.3×0.7		Top down
SNS-C16.7-0808-350-D45-P	600	350	43%	260	8×8.3×0.7		Top down
SNS-C16.7-0808-150-D55-P	600	150	55%	330	8×8.3×0.7		Top down
SNS-C16.7-0808-350-D55-P	600	350	55%	330	8×8.3×0.7		Top down
SNS-C16.5-2912-190-P	606	190	50%	303	29×12×0.7	X-sec	Top down
SNS-C16.5-2912-190-S 4	606	190	50%	303	29×12×0.7	X-sec	Top down
SNS-C16.5-2924-190-P	606	190	50%	303	29×24.2×0.7 5	X-sec	Top down
SNS-C14.8-2410-170-P	675	170	32%	218	24×10×0.7
SNS-C14.8-2430-170-P	675	170	32%	218	24×30.4×0.7 5
SNS-C14.3-0808-150-D45-P	700	150	47%	330	8×8.3×0.7		Top down
SNS-C14.3-0808-350-D45-P	700	350	47%	330	8×8.3×0.7		Top down
SNS-C14.3-0808-150-D55-P	700	150	55%	375	8×8.3×0.7		Top down
SNS-C14.3-0808-150-D55-P	700	150	55%	375	8×8.3×0.7		Top down
SNS-C12-1212-200-P	833.3	200	50%	416	12.5×12.5×0.7	X-sec	Top down
SNS-C12-2525-200-P	833.3	200	50%	416	25×25×0.7 5	X-sec	Top down
SNS-C11.7-1212-200-P	855	200	50%	428	12.5×12.5×0.7
SNS-C11.7-2525-200-P	855	200	50%	428	25×25×0.7 5

2D nanostamps (rectangular and hexagonal lattice)

型号	周期间隔(nm)	晶体类型	槽深 (nm)	线宽 (nm)	尺寸	型号
S2D-24B3-0808-150-P	700	rect post	150	260	8×8.3×0.7	Top down
S2D-24B3-0808-350-P	700	rect post	350	260	8×8.3×0.7	Top down
S2D-18B3-0808-150-P	700	rect post	150	350	8×8.3×0.7	Top down
S2D-18B3-0808-350-P	700	rect post	350	350	8×8.3×0.7	Top down
S2D-24C2-0808-150-P	600	hex post	150	165	8×8.3×0.7	Top down
S2D-24C2-0808-350-P	600	hex post	350	165	8×8.3×0.7	Top down
S2D-18C2-0808-150-P	600	hex post	150	240	8×8.3×0.7	Top down
S2D-18C2-0808-350-P	600	hex post	350	240	8×8.3×0.7	Top down
S2D-24C3-0808-150-P	700	hex post	150	220	8×8.3×0.7	Top down
S2D-24C3-0808-350-P	700	hex post	350	220	8×8.3×0.7	Top down
S2D-18C3-0808-150-P	700	hex post	150	290	8×8.3×0.7	Top down
S2D-18C3-0808-350-P	700	hex post	350	290	8×8.3×0.7	Top down
S2D-24D2-0808-150-P	600	hex hole	150	180	8×8.3×0.7	Top down
S2D-24D2-0808-350-P	600	hex hole	350	180	8×8.3×0.7	Top down
S2D-18D3-0808-150-P	700	hex hole	150	200	8×8.3×0.7	Top down
S2D-18D3-0808-350-P	700	hex hole	350	200	8×8.3×0.7	Top down
S2D-24D3-0808-150-P	700	hex hole	150	290	8×8.3×0.7	Top down
S2D-24D3-0808-350-P	700	hex hole	350	290	8×8.3×0.7	Top down

New nanostamps are added to our stock frequently. Please contact our application scientists if you cannot find a nanostructure you need in our stock list.

如何清洁光栅

为了去除油脂和其他污染物，传输光栅可在室温Liquinox溶液中浸泡不超过5分钟，在三个蒸馏水中漂洗，并使用无油喷嘴用干净干燥的压缩氮气吹干，同时用镊子夹住格栅（不要使用罐上的灰尘，因为其排放物受到高度污染）。切勿让水在格栅表面干燥，应将其吹走。氮气应该来自油箱或无油压缩机

http://www.alconox.com/Resources/TechnicalBulletin.aspx?plid=3

为了在这个过程中固定光栅，可以使用Nalgene™聚丙烯剪刀式镊子。

http://www.thermoscientific.com/en/product/nalgene-polypropylene-scissor-type-forceps.html

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热门标签：线性硅纳米印章,纳米印章,纳米图案硅片

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