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筱晓(上海)光子技术有限公司 主营产品:激光器,光电探测器,光纤,光无源器件等等

第5年

当前位置: 阿仪网 > 光学仪器 > 光学元器件 > 其他 > 筱晓(上海)光子技术有限公司 > 产品展示 > 加工定制产品 > 大型仪器设备 > 365nm 无掩膜数字光刻机 分辨率500nm 帧数100mmx100mm

365nm 无掩膜数字光刻机 分辨率500nm 帧数100mmx100mm

价格:¥电议

品牌名称:$brandModel.Title型号: 原产地:中国大陆 更新时间:2026/9/21 9:08:50

产品摘要:波长 365nm 大帧 100mm x 100mm 分辨率 500nm 灰度光刻 128 levels 大曝光量 2000mJ/cm2 对准精度 <100nm 场曲率 < 1 um 速度 2.5mm2 /sec 输入文件 BMP, GDSII Z精度 <1 um 环境 20~25℃

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产品完善度: 访问次数:719

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手机网站:http://wap.app17.com/c122052/

旗舰版网址:http://www.microphotons.com.cn

详细内容

筱晓光子 无掩膜数字光刻机 MCML-120A




总览

产品特点

采用数字微镜 (DMD) 的无掩膜扫描式光刻机,365nm波长

直接从数字图形生成光刻图案,免去制作掩模板的中间过程,支持直接读取GDSII和BMP文件

全自动化的对焦和套刻,易于使用

晶圆连续运动配合DMD动态曝光,无拼接问题。全幅面绝对定位精度0.1um

套刻精度: 0.2um

500 nm / 1 um分辨率,100mm x 100mm大幅面(4~6寸晶圆),满幅面曝光时间5~30分钟

500um小线宽

可灰度曝光(128阶)

尺寸小巧,可配合用循环装置产生内部洁净空间

通用参数

应用

微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等试制加工

带有2.5D图案的微光学元件,衍射光器件制作

教学、科研

参数

MCML-110A

MCML-120A

Wavelength 波长

365nm

365nm

Max. frame 大帧

100mm x 100mm

100mm x 100mm

Resolution 分辨率

1.0um

500nm

Grayscale lithography

灰度光刻

64 levels

128 levels

Max exposure

大曝光量

500mJ/cm2

2000mJ/cm2

Alignment accuracy

对准精度

<200nm

<100nm

field curvature

场曲率

< 1 um

< 1 um

Speed

速度

5mm2 /sec

2.5mm2 /sec

Input file

输入文件

BMP, GDSII

BMP, GDSII

Z level accuracy

Z精度

<1 um

<1 um

Environment

环境

20~25℃

20~25℃

样品


(SU8-2002, 2um胶厚,2寸硅基底)







总览

产品特点

采用数字微镜 (DMD) 的无掩膜扫描式光刻机,365nm波长

直接从数字图形生成光刻图案,免去制作掩模板的中间过程,支持直接读取GDSII和BMP文件

全自动化的对焦和套刻,易于使用

晶圆连续运动配合DMD动态曝光,无拼接问题。全幅面绝对定位精度0.1um

套刻精度: 0.2um

500 nm / 1 um分辨率,100mm x 100mm大幅面(4~6寸晶圆),满幅面曝光时间5~30分钟

500um小线宽

可灰度曝光(128阶)

尺寸小巧,可配合用循环装置产生内部洁净空间

通用参数

应用

微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等试制加工

带有2.5D图案的微光学元件,衍射光器件制作

教学、科研

参数

MCML-110A

MCML-120A

Wavelength 波长

365nm

365nm

Max. frame 大帧

100mm x 100mm

100mm x 100mm

Resolution 分辨率

1.0um

500nm

Grayscale lithography

灰度光刻

64 levels

128 levels

Max exposure

大曝光量

500mJ/cm2

2000mJ/cm2

Alignment accuracy

对准精度

<200nm

<100nm

field curvature

场曲率

< 1 um

< 1 um

Speed

速度

5mm2 /sec

2.5mm2 /sec

Input file

输入文件

BMP, GDSII

BMP, GDSII

Z level accuracy

Z精度

<1 um

<1 um

Environment

环境

20~25℃

20~25℃

样品


(SU8-2002, 2um胶厚,2寸硅基底)

热门标签:筱晓光子,无掩膜数字光刻机,数字光刻机

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