光学平台产品及厂家
日本rion光遮蔽粒子计数器 kl-05,（光渗透法），可测试粒径范围：1~20个通道范围，1.3μm~100（0.1μm的间隔）大粒子数浓度：10 000 颗/l （误差值低于10%）
更新时间:2024-05-28
日本rion液体光学颗粒度仪：ks-93( 光散射法），大粒子数浓度：30 000 颗/l （误差值低于5%），粒径范围（5个通道）：≥0.1μm， ≥0.15μm ， ≥0.2μm ， ≥0.3μm, ≥0.5μm， ≥25μm
更新时间:2024-05-28
octoplus 500 mbe系统是为了在6英寸衬底上生长高质量的iii/v族或者ii-vi族异质结构材料而研发业分子束外延系统。样品台选用热解石墨加热或者钨、钽加热丝。标准的octoplus 500有11个呈放射状分布的源孔，可以根据需要增选3个源孔。
更新时间:2024-05-28
德国leica em txp全新精研一体机，是一款独特的可对目标区域进行精确定位的表面处理工具，特别适合于sem，tem及lm观察之对样品进行切割、抛光等系列处理。它尤其适合于制备高难度样品，如需要对目标精细定位或需对肉眼难以观察的微小目标进行定点处理。
更新时间:2024-05-28
keyence 基恩士 形状测量激光显微系统全新 vk-x3000，纳米 / 微米 / 毫米，一台即可完成测量。292 种分析工具，一台即可了解希望获取的信息。一台即包含了光学显微镜，台阶仪，光学轮廓仪，及电镜功能。
更新时间:2024-05-28
日本电子 jsm-7610fplus，用于纳米科学的肖特基场发射扫描电子显微镜， 是款采用半浸没式物镜、拥有超高分辨率的场发射扫描电子显heidelberg 海德堡 μmla桌面无掩模光刻机
更新时间:2024-05-28
dwl 66+激光光刻系统是具经济效益的高分辨率图像产生器, 具有多种直写模块，实现不同精度直写需求, 能于结构上进行灰度曝光
更新时间:2024-05-28
德国海德堡 heidelberg 激光直写光刻机 mla150,德国高精密激光直写绘图机,非接触式曝光,可支持高效数位光刻与灰度光刻.
更新时间:2024-05-28
奥地利smartnil紫外纳米压印：evg7200，leds 制作，led pss纳米压印工艺，led纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。
更新时间:2024-05-28
evg610是一款非常灵活的适用于研发和小批量试产的对准系统，可处理大200mm之内的各种规格的晶片。evg610支持各种标准的光刻工艺，例如：真空、软、硬接触和接近曝光；也支持其他特殊的应用，如键合对准、纳米压印光刻、微接触印刷等。系统中的工具更换非常简便快捷，每次更换都可在一分钟之内完成，而不需要门的工程人员和培训，非常适合大学、研究所的科研实验和小批量生产。
更新时间:2024-05-28
奥地利evg键合机：evg510，是一款半自动晶圆键合系统，可以处理大200mm的晶圆，非常适合于研发和小批量生产。evg510提供了除上料和下料外的全自动工艺处理过程，并配备了业界公认的优异的加热和压力均匀性系统。evg510模块化的键合腔室设计可用于150mm或200mm晶圆键合，并且其工艺菜单与evg其他更高系列的键合机相匹配，可以方便的实现从实验线到量产线的工艺复制。
更新时间:2024-05-28
evg520is是一款设计用于小批量生产的半自动晶圆键合系统， 大硅片允许尺寸为200mm。集evg新技术及客户反馈基础上设计的evg520is，配备了evg公司的利吸盘设计---这种吸盘可以提供对称的快速加热和冷却功能。evg520is的很多优势特性，如独立的上下盘加热和高压键合工艺、高度的材料和工艺灵活性等，都帮助客户很好的实施键合研究和生产。
更新时间:2024-05-28
evg620 单面/双面光刻机(带有压印功能），evg620 是一款非常灵活和可靠的光刻设备，可配置为半自动也可以为全自动形式。evg620 既可以用作双面光刻机也可以用作 150mm 硅片的精确对准设备；既可以用作研发设备，也可以用作量产设备。精密的契型补偿
更新时间:2024-05-28
美国neocera 脉冲激光沉积系统pioneer 180-2-pld,一种用途广泛的、用于薄膜沉积以及纳米结构和纳米粒子合成的方法
更新时间:2024-05-28
2英寸氮化镓自支撑晶片, 10×10.5mm²氮化镓自支撑晶片, 非性/半性氮化镓自支撑晶片, 4英寸氮化镓厚膜晶片, 2英寸氮化铝厚膜晶片, 2英寸氮化镓厚膜晶片
更新时间:2024-05-28
法国annealsys 高温退火炉as-one, 多用途快速热处理设备，适用于硅，化合物半导体，太阳能电池& mems.
更新时间:2024-05-28
日本rion液体光学颗粒度仪ks-19f,宽广的测试范围，可测试 0.03~0.13um 之间的颗粒只需要小小的样品取样量就可以得到高效率高精准的颗粒数据。octoplus 400 是一款通用型mbe系统，非常适合于iii/v族， ii/vi族，及其他复合半导体材料应用。兼容2-4英寸标准晶片。竖直分割式腔体设计，可以装配各种源炉，实现不同材料分子束外延生长。
更新时间:2024-05-28
日本rion粒子计数器：kc-22a ( 光散射法）,大粒子数浓度：10000颗/l （误差值低于5%）,可检测从纯水到氢氟酸各种各样的液体。
更新时间:2024-05-28
日本rion气体粒子计数器：kc-32 ( 光散射法）测试粒径（6个通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm, ≥10μm
更新时间:2024-05-28
日本rion气体粒子计数器：kc-20a ( 光散射法）,测试粒径（5个通道）：≥10μm， ≥20μm ， ≥30μm ， ≥50μm， ≥100μm
更新时间:2024-05-28
日本rio液体粒子计数器ke-18fx ( 光散射法）,测试粒径（4个通道）：≥0.04μm， ≥0.08μm ， ≥0.1μm ， ≥0.15μm，
更新时间:2024-05-28
日本rion液体光学颗粒度仪 ks-42d ( 光散射法），大粒子数浓度：10 000 颗/l （误差值低于10%），粒径范围（8个通道，出厂默认）：≥2μm， ≥3μm ， ≥5μm ， ≥7μm, ≥10μm， ≥25μm ， ≥50μm ， ≥100μm(可选 ≥150μm）
更新时间:2024-05-28
日本rion粒子计数器：kl-30ax ( 光散射法）,大粒子数浓度：15 000 颗/l （误差值低于10%）, 粒径范围（4个通道，工厂标配）：≥0.04μm， ≥0.08μm ， ≥0.1μm ， ≥0.15μm
更新时间:2024-05-28
日本rion气体粒子计数器：kl-30a ( 光散射法）, 测纯水，可打印。大粒子数浓度：15 000 颗/l （误差值低于10%）, 粒径范围（4个通道，出厂设置）：≥0.05μm， ≥0.1μm ， ≥0.15μm ， ≥0.2μm
更新时间:2024-05-28
日本rion气体粒子计数器：kl-30b ( 光散射法）, 测纯水，可打印。大粒子数浓度：200 000 颗/l （误差值低于10%），粒径范围（4个通道，出厂设置）：≥0.05μm， ≥0.1μm ， ≥0.15μm ， ≥0.2μm
更新时间:2024-05-28
日本rion 手持式粒子计数器：kc-51( 光散射方式）,大粒子数浓度：140 000 000颗/m³ （误差值低于10%）
更新时间:2024-05-28
日本rion 手持式粒子计数器：kc-52( 光散射方式）,粒径范围：5个通道： 0.3μm ， 0.5μm , 1.0μm , 2.0μm, 5.0μm, 大粒子数浓度：140 000 000颗/m³ （误差值低于10%）
更新时间:2024-05-28
日本rion气体粒子计数器：ka-02( 光散射方式）,多点监视用粒子计数器，测试粒径（2个通道）：≥0.3μm ， ≥0.5μm，大粒子数浓度：140 000 000颗/l （误差值低于10%）
更新时间:2024-05-28
日本rion气体粒子计数器：ka-03( 光散射方式）,多点监视用粒子计数器，测试粒径（5个通道）：≥0.3μm ， ≥0.5μm ，≥1μm ， ≥2μm ，≥5μm ，大粒子数浓度：140 000 000颗/l （误差值低于10%）
更新时间:2024-05-28
日本rion气体粒子计数器：ka-82( 光散射方式）,多点监视用粒子计数器，测试粒径（5个通道）：≥0.1μm ， ≥0.15μm， ≥0.2μm ， ≥0.3μm ， ≥0.5μm ，大粒子数浓度：10 000颗/l （误差值低于5%）
更新时间:2024-05-28
玻璃去油墨设备,采用订制紫外纳激光器对玻璃表面进行去油墨以及油墨微加工， 将产品损伤降至低。
更新时间:2024-05-28
oai 800型光学正面和背面光刻机系统, 是半自动,four-camera、光学正面和背面光刻机。它提供其精确的(1碌m - 2 m碌)对准精度,旨在大大超过任何红外背后对准器性能的一个非常有竞争力的价格。通用模型800光刻机是理想的用于低产量、研发实验室和大学。
更新时间:2024-05-28
液体光学颗粒度仪 ks-42c，宽广的测试范围，可测试 0.5~20um 之间的颗粒只需要小小的样品取样量就可以得到高效率高精准的颗粒数据。
更新时间:2024-05-28
英国nanobean nb5 电子束光刻机,具有良好的稳定性，平均正常运行时间超过93%.
更新时间:2024-05-28
瑞典 mycronic 掩膜版光刻机 fps6100，用于制作高精度掩膜版，广泛用于半导体，tft-lcd，微电子等行业。
更新时间:2024-05-28
系统中集成了高精度的激光干涉工作台，运动行程为50 x 50 x 25mm，xy方向定位精度为2nm，可以实现精确的拼接套刻，拼接套刻精度≤50nm。
更新时间:2024-05-28
ebpg5150使用了155mm大小的样品台，采用跟ebpg5200一样的通用光刻平台设计，对电子束直写应用进行了优化。它可以载入不同大小的样品,包括多片散片以及完整的硅片。
更新时间:2024-05-28
德国raith voyager 新一代超高分辨率电子束光刻机,系统可实现8英寸样品的高速曝光。系统的稳定性是非常关键的指标，可保证大面积均匀曝光。该系统外部采用环境屏蔽罩，即使在稍差的实验室环境下，仍然能确保系统具有非常好的热稳定性，提高系统对外界环境的容忍度。
更新时间:2024-05-28
raith 150 two可实现亚5nm的曝光结构，可处理8”晶元及以下样片。环境屏蔽罩保证了系统的热稳定性，提高设备对实验室环境的容忍度，即使在相对糟糕的实验室环境下，也能保证系统的正常稳定运行。
更新时间:2024-05-28
raith 150 two可实现亚5nm的曝光结构，可处理8”晶元及以下样片。环境屏蔽罩保证了系统的热稳定性，提高设备对实验室环境的容忍度，即使在相对糟糕的实验室环境下，也能保证系统的正常稳定运行。
更新时间:2024-05-28
phabler 100 紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统，但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似，涂覆了光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于eulitha公司拥有突破性的phable 曝光技术，在"phable"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，从而曝光出亚微米的线性光栅和二维光栅（六角形和正方形），且曝光结果非常均匀，质量很好。
更新时间:2024-05-28
德国iplas mpcvd cyrannus® 利技术微波等离子化学气相沉积系统，广泛应用于第四代半导体，射频器件，散热器件，光学窗口等高科技令域，晶圆生长金刚石膜，被誉为半导体终材料。
更新时间:2024-05-28
最新产品
- 日本索尼Magnescale探规 2024/6/3 2:12:52
- 日本索尼Magnescale测笔 2024/6/3 2:12:07
- 日本索尼Magnescale测笔 2024/6/3 2:07:52
- 日本索尼Magnescale测笔 2024/6/3 2:07:00
- 日本索尼Magnescale测笔 2024/6/3 2:06:18
- 日本索尼Magnescale测笔 2024/6/3 2:05:33
- 日本索尼Magnescale测笔 2024/6/3 2:04:02
- 日本索尼Magnescale测笔 2024/6/3 2:03:16
- 日本索尼Magnescale测笔 2024/6/3 2:02:08
- 日本索尼Magnescale测笔 2024/6/3 0:08:45
- 日本索尼Magnescale探规 2024/6/3 0:06:16
- 日本索尼Magnescale探规 2024/6/3 0:05:25
- 日本索尼Magnescale探规 2024/6/3 0:04:22
- 日本索尼Magnescale探规 2024/6/3 0:03:08
- 日本索尼Magnescale探规 2024/6/3 0:01:13
- 日本索尼Magnescale探规 2024/6/2 23:59:34
- 日本索尼Magnescale探规 2024/6/2 23:58:48
- 日本索尼Magnescale探规 2024/6/2 23:57:24
- 阿莫西林高剪切化机 2024/6/2 22:30:28
- 定向跌落测试机 2024/6/2 21:41:10
- 定向跌落试验机 2024/6/2 21:39:38
- 包装纸箱双翼跌落试验机 2024/6/2 21:20:47
- 包装纸箱单臂跌落试验机 2024/6/2 21:18:33
- 纸箱模拟汽车运输振动台 2024/6/2 21:12:31
- 减震器阻尼力疲劳试验机 2024/6/2 21:06:57
- 吊杆阻尼力寿命测试机 2024/6/2 21:05:16
- 导热硅脂高速胶体磨 2024/6/2 17:30:18
- 手术病人保暖升温装置 2024/6/2 16:52:04
- 医用空气加热毯 2024/6/2 16:51:47
- 煤矿井下用16mm pe注浆管 矿用注浆管厂家 志林矿山 可定制 2024/6/2 16:48:09