在半导体晶圆制造过程中,光刻胶是决定光刻分辨率的关键材料之一。随着制程节点向纳米级推进,光刻胶中即使混入极少量的微小颗粒,也可能导致图形缺陷、线宽异常甚至整片晶圆报废。普洛帝作为油液颗粒检测领域技术创新者,推出的PMT-2光刻胶专用颗粒计数器,针对半导体级液体材料的微纳米检测需求设计,服务于晶圆制造与光刻胶供应链的质量管控环节。
光刻胶检测难点
光刻胶属于高粘度、高敏感度的光化学材料,其颗粒检测与普通工业油液存在明显差异。首先,光刻胶中的颗粒尺寸多集中在亚微米到纳米区间,常规光阻法仪器的测量下限难以覆盖;其次,光刻胶本身带有颜色和黏性,光线穿过时会产生散射与吸收,影响计数结果;再者,光刻胶单价较高、取样量受限,检测系统需要在低取样体积下仍保持统计稳定性。此外,晶圆厂对化学品来料的管控遵循SEMI相关规范,检测数据需要可追溯、可比对,这对仪器的通道设置和报告输出提出了较高要求。
产品参数表
PMT-2光刻胶颗粒计数器主要技术参数如下:
项目 | 参数 |
检测方式 | 光阻法(第八代双激光光路) |
可测粒径 | 0.1μm~15μm(光刻胶专用通道) |
取样体积 | 0.1mL~10mL可调 |
检测浓度 | 最高可达10000颗/mL |
适用标准 | ISO4406、NAS1638、GJB420B;SEMI框架下可按方法要求设置检测通道 |
数据输出 | 颗粒浓度、粒径分布、清洁度等级报告 |
通讯接口 | RS232 / USB /以太网 |
技术原理
PMT-2采用普洛帝第八代双激光光路结构。两路独立激光从不同角度照射流经传感器窗口的液体样本,颗粒经过时产生遮光信号,系统根据遮光量换算颗粒等效粒径。双光路设计可以在一定程度上修正高粘度液体中颗粒沉降带来的计数偏差,同时对有色液体的透光率变化进行补偿。与上一代单激光方案相比,双光路在低浓度区间的重复性有所改善,适合光刻胶这类高价值、低颗粒浓度样本的抽检场景。
应用场景
PMT-2适用于光刻胶生产企业的出厂质控、晶圆厂化学品供应间的来料检验,以及CMP浆料、显影液、剥离液等半导体湿化学品的颗粒度检测。在光刻胶供应链中,该仪器可用于批次之间的稳定性比对,帮助工艺人员识别颗粒异常波动;在晶圆厂端,可纳入化学品物料管理流程,为光刻工艺的良率分析提供数据支撑。对于制药行业的注射剂不溶性微粒检测,设备也可按药典方法通道进行配置。
作为油液颗粒检测领域技术创新者,普洛帝围绕半导体、风电、液压、电力、制药等行业的颗粒检测需求持续丰富产品线。PMT-2是其面向半导体湿化学品检测方向的专用设备,检测结果可按ISO4406、NAS1638等常用标准输出报告,供客户用于内部质量管控与供应链比对。