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德国 ALLRESIST 特殊工艺用光刻胶
德国allresist 特殊工艺用光刻胶，电子束曝光导电胶，耐酸碱保护胶，聚酰亚胺胶（耐高温保护胶），全息光刻用胶，长波曝光胶， 深紫外曝光胶等特殊工艺用胶
价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲
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德国 ALLRESIST 紫外光刻胶
德国 allresist 紫外光刻胶，各种工艺：喷涂专用胶，化学放大胶，lift-off胶，图形反转胶，高分辨率胶，liga用胶等。各种波长: 深紫外(deep uv)、i线(i-line)、g线(g-line)、长波(longwave)曝光用光刻胶。各种厚度: 光刻胶厚度可从几十纳米到上百微米。
价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲
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AR-P617德国 ALLRESIST 电子束光刻胶
德国allresist 电子束光刻胶（电子束抗蚀剂）（e-beam resist） 电子束正胶：pmma 胶，pmma/ma 聚合物， liga 用胶等。 电子束负胶：高分辨率电子束负胶，化学放大胶（高灵敏度电子束胶）等。
价 格：￥电议型 号：AR-P617产 地：欧洲
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紫外光刻胶-薄胶，S 1800 系列，AZ5214, BCI-3511, SPR 955, AZ1500
紫外光刻胶-薄胶，s 1800 系列，az5214, bci-3511, spr 955, az1500
价 格：￥电议型 号：产 地：中国大陆
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mr-NIL 6000E, mr-I 9000M, mr-UVCur21纳米压印胶
纳米压印胶, mr-nil 6000e, mr-i 9000m, mr-uvcur21,可用于纳米图形的制造、刻蚀、多层系统等。
价 格：￥电议型 号：mr-NIL 6000E, mr-I 9000M, mr-UVCur21产 地：日本
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Lifft off光刻胶
lifft off光刻胶 : rn-218系列， rn-246系列，ma-n 400 系列/1400 系列，az nlof 2000系列， lor/pgmi, lol 2000
价 格：￥电议型 号：产 地：中国大陆
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SU-8宽带厚胶
宽带厚胶，su-8 10系列：gm1010，gm1020，gm1030，gm1040，gm1050，gm1060，gm1070，gm1075导电 su-8 (gcm3060)，spr220， nr26-25000p，az p4620.
价 格：￥电议型 号：SU-8产 地：中国大陆
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E-Beam 电子束光刻胶
e-beam 电子束光刻胶 ：hsqxr-1541-006, z520, pmma, ebl6000系列，ma-n2400系列。纳米压印胶：mr-nil 6000e, mr-l 900m, mr-uvcur21.光固化胶：ormo 系列
价 格：￥电议型 号：产 地：中国大陆
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LTC 9305. LTC9310, LTC9320, LTC9505, LTC9富士负性PI
富士负性pi ltc9000系列：ltc 9305. ltc9310, ltc9320, ltc9505, ltc9510, ltc9520.正性pi：fb5610,fb6610光敏性polyimide precursor: 7500, 7510, 7520 ,dur 7300非光敏polyamic acid： 112a, 115acolor mosaics: s
价 格：￥电议型 号：LTC 9305. LTC9310, LTC9320, LTC9505, LTC9产 地：中国大陆
