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深圳市蓝星宇电子科技有限公司 主营产品：光刻机,真空镀膜机,离子刻蚀机,,半导体辅助材料,半导体微纳检测仪器,太阳能吸收率发射击队率检测仪,,实验检测仪器设备,紫外线UV光清洗机UV灯.

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参观次数：681012

手机网站：http://wap.app17.com/c143096/

公司网站：http://www.lxyee.net

光刻机&3D打印机

镀膜沉积机

离子刻蚀与沉积

匀胶涂覆机

半导体辅助设备

半导体微纳检测仪器

实验检测仪器

紫外清洗等离子清洗机

太阳能检测仪

德国YXLON 检测仪

德国Netzsch

Rion 液体光学颗粒度仪

液体光学颗粒度仪

奥地利EVG光刻杨键合机压印机

尼康Nikon光刻机

德国Lecia 切片掩膜一体机

日本Elionix

化学开封机 / 激光开封机

光刻胶/硅片

半导体辅助工艺/光刻胶

日立Hitachi

UV灯

  • NIE-4000 ,NIR-4000 IBE/RIE离子束刻蚀系统

    nie-4000 离子束刻蚀系统，nir-4000 ibe/rie 双刻蚀系统，通过加速的 ar 离子进行物理刻蚀或铣削。对于硅的化合物也可以通过反应离子束刻蚀的方式提高刻蚀速率和深宽比。

    价 格：￥电议型 号：NIE-4000 ,NIR-4000 IBE/RIE产 地：美洲

  • ELS-F125日本Elionix微细加式电子束曝光电子束直写机

    日本elionix 微细加式电子束曝光电子束直写机els-f125，是elionix推出的上台加速电压达125kv的电子束曝光系统，其可加工线宽下限为5nm的精细图形。

    价 格：￥电议型 号：ELS-F125产 地：日本

  • ECHO LS美Sonix超声波扫描显微镜

    美sonix超声波扫描显微镜echo ls 可检测小 0.05 微米的缺陷，它是款好的检测 bump, 堆叠芯片(三维封装)，复杂 flipchip 和传统塑封封装的工具.

    价 格：￥电议型 号：ECHO LS产 地：美洲

  • ECHO Pro美Sonix超声波扫描显微镜

    美 sonix 全自动超声波扫描显微镜echo pro , 批量 tray盘和框架直接扫瞄, 编程自动判别缺陷, 高产量,无需人员重复设置, 自动烘干.

    价 格：￥电议型 号：ECHO Pro产 地：美洲

  • AutoWafer Pro纳米压痕仪

    bruker hysitron ti 980 triboindenter 加速纳米力学研究进入更高阶段,同时具有高的性能、灵活性、可信度、实用性和速度。基于海思创几十年的技术创新，它为纳米力学表征带来了高水平的性能、功能和易用性。ti 980达到了台优异纳米力学测试仪器所需的所有要求，实现了控制上突出的先进性和高

    价 格：￥电议型 号：AutoWafer Pro产 地：欧洲

  • SE 500adv激光椭偏仪

    se 500adv 激光椭偏仪激光椭偏仪se 500adv，椭偏仪se 500adv将激光椭偏仪和反射仪结合在一个系统中。这种组合允许零度反射法用于快速薄膜分析，并且允许透明膜以激光椭偏仪的亚埃精度将可测量的厚度范围扩展到25埃米，从而明确地确定厚度。

    价 格：￥电议型 号：SE 500adv产 地：欧洲

  • SENpro光谱椭偏仪

    德国 sentech 低成本高效益的光谱椭偏仪senpro,senpro椭偏仪是椭偏仪应用的智能解决方案。它具有角度计，入射角度步进值5°。操作简单，快速测量和直观的数据分析相结合，以低成本效益高的设计来测量单层和多层膜的厚度和光学常数。

    价 格：￥电议型 号：SENpro产 地：欧洲

  • HMS-5000/HMS-5500全自动变温霍尔效应测试仪

    型号：hms-5000 / hms-5500生产商：ecopia corp.(80k-350k，常温-773k)

    价 格：￥电议型 号：HMS-5000/HMS-5500产 地：其它

  • CYRANNUS®微波等离子化学气相沉积系统

    德国iplas mpcvd cyrannus® 利技术微波等离子化学气相沉积系统，广泛应用于第四代半导体，射频器件，散热器件，光学窗口等高科技令域，晶圆生长金刚石膜，被誉为半导体终材料。

    价 格：￥电议型 号：CYRANNUS®产 地：中国大陆

  • URE-2000/34AL型紫外光刻机

    ure-2000/34al型光刻机，曝光分辨率： 0.8μm-1μm ，套准精度：±0.8-1μm

    价 格：￥电议型 号：URE-2000/34AL型产 地：中国大陆

  • LFA 467 HyperFlash德国NETZSCH 闪射法导热仪

    lfa 467 hyperflash 闪射法导热仪，自由选择测试气氛，优化结构设置与闪射光源，16位自动进样器，高的测量效率，宽广的温度范围，灵活配备冷却系统，设计独特，性能优异，配备氙灯光源的，高温测试系统，宽广的温度范围，真空密闭炉体，确保气氛纯净，防止氧化，内置微型管式炉，更高的测量效率，高数据采集速率- 用于薄膜与高导热材料的解决方案

    价 格：￥电议型 号：LFA 467 HyperFlash产 地：中国大陆

  • DSC 300德国NETZSCH差示扫描量热仪

    差示扫描量热仪dsc 300 ，是全面、可靠的dsc仪器系列，表征材料热性能游刃有余。

    价 格：￥电议型 号：DSC 300产 地：欧洲

  • InSEM HT美国KLA 原位高温纳米力学测试系统，纳米压痕仪

    美国kla insem ht原位高温纳米力学测试系统，纳米压痕仪，样品加温可达800 ℃，样品尺寸可达10mm，装样系统与真空环境兼容

    价 格：￥电议型 号：InSEM HT产 地：美洲

  • FF85德YXLON CT检测

    德国yxlonff85 ct用于质量控制及科研的高分辨率、致多用途检测

    价 格：￥电议型 号：FF85产 地：欧洲

  • BT4000ADLEMA检漏机

    adlema先进的检漏机bt4000技 术 规 格• 尺 寸 :270x200x300mm• 重 量 :8kg• 电 源 输 入 :24 vdc• 管 径 :4x2, 6x4, 8x6, 10x8

    价 格：￥电议型 号：BT4000产 地：欧洲

  • HBO350W/S，HBO5000W/S,HBO200W/DC,HBO1000W/DSUSS光刻机用曝光灯HBO系列

    suss苏斯/休斯，evg, oai等系列光刻机用曝光灯hbo系列，suss苏斯，evg, oai公司生产的半导体和太阳能行业用光刻机，目得到业界的广泛认同，该系列光刻机曝光系统的曝光灯，主要是由德国欧司朗及日本牛尾公司生产的曝光灯进行配套供应。欧司朗/牛尾曝光灯系列，具备良好的光通量，稳定的光强度以及优质的品质受到业界的青睐。

    价 格：￥电议型 号：HBO350W/S，HBO5000W/S,HBO200W/DC,HBO1000W/D产 地：中国大陆

  • Model 800E美国OAI掩模对准系统

    oai model 800e 型掩模对准系统，各种光谱范围选项:hg灯:g(436nm),h(405nm)， i(365nm)和310nm线，hg-xe灯:260nm和220nm

    价 格：￥电议型 号：Model 800E产 地：美洲

  • Model 212美国OAI紫外光刻机

    oai model 212型桌面掩模对准系统, 输出光谱范围:hg: g(436nm),h(405nm),i(365nm)和310nm,hg-xe: 260 nm和220 nm或led:365 nm、395 nm和405 nm

    价 格：￥电议型 号：Model 212产 地：美洲

  • NRT-3500, NRT-4000美NANO-MASTER RTP快速退火炉

    美nano-master rtp快速退火炉nrt-3500 紧凑型独立式全自动rtp系统nrt-4000 独立式全自动rtp系统nrt-4000 独立式大批量rtp系统nir-4000 独立式 ibe / rie 双刻蚀系统nie-3000 台式 ibe 刻蚀系统nsc-3000可支持多4个靶的dc溅射或rf溅射

    价 格：￥电议型 号：NRT-3500, NRT-4000产 地：美洲

  • Model 6020S美国OAI紫外光刻机

    oai的面板掩模光刻机 model 6020s, 用于foplp型号6020s -半自动化或自动化,实现500mm x 500mm 晶圆尺寸的fo-plp加工.

    价 格：￥电议型 号：Model 6020S产 地：美洲

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