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高纯铑靶材 Rh target 铂铑合金靶材
名称： 铑靶材/rh target 纯度99.99％由于贵金属价格变动较大，请咨询客服，仅当日报价有效尺寸： φ50.8＊3，φ76.2＊3 可定制
第0年
高纯度金靶材磁控溅射仪
不同的蒸发速率下沉积300nm的au薄膜,研究蒸发速率对薄膜表面形貌和性能的影响。随着蒸发速率的提高,薄膜的结构变得致密,晶粒尺寸和表面粗糙度减小。高纯度金靶材磁控溅射仪kt-z1650pvd在较短时
第0年
银靶材离子溅射仪
银是一种柔软，有光泽的元素，属于元素周期表中的金属过渡族。它的熔点为961.78℃，密度为10.49g /cm3.银的理化性质均较为稳定，导热、导电性能很好，质软，富延展性。银的理化性质均较为稳定，导
第0年
铜靶材镀膜溅射仪
以铜 (cu) 溅射靶材为例.在制备铜溅射靶时,不可避免地会引入硫、铅等其他杂质含量.微量的硫可以防止热加工时晶粒尺寸增大或产生微裂纹;但当硫元素含量高于18 ppm时,会出现微裂纹;随着两种杂质元素
第0年
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