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快速退火炉100～1100℃（厦门直销）
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价格：￥电议
更新日期：2026/9/8 5:03:28
生 产 地：中国大陆
产品型号：RTP1100
商家名片
黄**
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详细内容
快速热处理退火炉简称 RTP（Rapid Thermal Processing Furnace），由我公司借鉴了国际先进制造工艺，在管式炉的基础上自主研发而成，不但拥有极快的升温速率500℃/S，而且降温速率也有了质的飞跃100℃/S。我们的工程师们巧妙地利用了冷壁工艺，以至于达到如此快的降温速度。真正的极速升温和极速降温！
腔体采用了独有双层石英管结构，外层管进气，内层管出气，使得反应气氛与加工样品充分而均匀地接触。
加热灯管之所以能够让硅片快速升温，是因为光源波长在0.3-4微米之间，石英管壁无法有效吸收这一波段的辐射，而晶片则正好相反。因此，晶片可以吸收辐射能量快速加热，而此时石英管壁仍维持低温，即所谓冷壁工艺。
应用领域
Ø 快速热退火 (RTA); 离子注入后退火
Ø 石墨烯等气象沉积，碳纳米管等外延生长
Ø 快速热氧化 (,RTO); 热氮化 (RTN);
Ø 硅化 (Silicidation);
Ø 扩散 (Diffusion);
Ø 离子注入后退火 (Implant Annealing);
Ø 电极合金化 (Contact Alloying);
Ø 晶向化和坚化 (Crystallization and Densification);
主要特点
Ø 极速升温100℃/S，极速降温100℃/S；
Ø 双层炉管结构，气氛与样品接触更均匀；
Ø 直接测量样品表面温度，测温更精准；
Ø 炉膛根据设置可自动左右移动，可以满足更多的实验应用；
Ø 真空度可达7.4×10-4Pa；
| 型号 | 最高 温度 | 升温速率 ℃/S | 降温速率 | 管径 | 处理晶片 | 加热区 | 恒温区±2℃ | 外形尺寸mm | 功率 | 重量 | ||
| ℃/S | (内)mm | 尺寸 in | 长度mm | 长度mm | 宽 | 深 | 高 | 千克 | ||||
| RTP1100 | 1100℃ | 100 | 100 | 103 | 4″ | 200 | 150 | 800 | 540 | 750 | 5.0kw | 45 |
*800℃以上保温时间超过1分钟会影响降温速度，保温10分钟以上，需选配法兰水冷套。
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