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GE 369-HI-R-M-0-0 备货369-HI-R-M-0-0

点击次数:453 发布时间:2014/1/9 13:59:23

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兴锐嘉进出口有限公司

 

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1.2.1 来自空间的辐射干扰 
 
空间的辐射电磁场(EMI)主要是由电力网络、电气设备的暂态过程、
雷电、无线电广播、电视、雷达、高频感应加热设备等产生的,通常称为
辐射干扰,其分布极为复杂。若PLC系统置于射频场内,就会收到辐射
干扰,其影响主要通过两条路径:一是直接对PLC内部的辐射,由电路
感应产生干扰;而是对PLC通信内网络的辐射,由通信线路的感应引入
干扰。辐射干扰与现场设备布置及设备所产生的电磁场大小,特别是频率
有关,一般通过设置屏蔽电缆和PLC局部屏蔽及高压泄放元件进行保护。 
 
 
 
3.在PLC控制系统中,电源占有极重要的地位。电网干扰窜入PLC控制
系统主要通过PLC系统的供电电源(如CPU电源、I/O电源等)、变
送器供电电源和与PLC系统具有直接电气连接的仪表供电电源等耦合进入
的。现在,对于给PLC系统供电的电源,一般都采用隔离性能较好电源,
而对于变送器供电的电源和PLC系统有直接电气连接的仪表的供电电源,
并没受到足够的重视,虽然采取了一定的隔离措施,但普遍还不够,主要是
使用的隔离变压器分布参数大,抑制干扰能力差,经电源耦合而窜入共模干扰、
差模干扰。所以,对于变送器和共用仪表信号供电电源应选择分布电容小、
抑制带大(如采用多次隔离和屏蔽及漏感技术)的配电器,以减少PLC
系统的干扰。 
 
此外,为保证电网馈点不中断,可采用在线式不间断供电电源(UPS)
供电,提高供电的安全可靠性。并且UPS还具有较强的干扰隔离性能,
是一种PLC控制系统的理想电源。 
 
 
 
4.改进后其生产过程控制流程示意图见图1。图中罐A、罐B的容量相等且为
罐C、罐D容量的一半。要求将溶液A和溶液B分别由泵1和泵2加到罐A和罐
B中,罐B满后将溶液B加热到60℃,然后用泵3和泵4把罐A和罐B中的溶液
全部加入到罐C中以1比1的比例混合,罐C装满后要继续搅拌60秒进行充分
的化学反应,然后由泵5把罐C中的成品全部经由过滤器送到成品罐D中,
罐D装满后开启泵6把整罐成品全部抽走。接着开始新一周期的循环。 
 

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1C31129G03 4   圆头大卡

1C31132G01 3   配套小卡

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