KRI 霍尔离子源控制器成功替代 Veeco Commonwealth 控制器

KRI 霍尔离子源控制器成功替代 Veeco Commonwealth 控制器
上海伯东是美国 KRI 考夫曼离子源中国总代理. 经过实践, 美国考夫曼公司霍尔离子源控制器替代 Veeco Commonwealth 控制器, 不需更改任何镀膜机计算机程序及相关设定即可直接运做!

美国 KRI 霍尔源控制器提供全自动控制器 Auto Controller, 灯丝控制器 Filament Controller, 阳控制器 Discharge Controller, 运作时可以选择全自动匹配 Auto Gas, 半自动匹配 Manual Gas 及全手动匹配 Gas Only 三种操作选项.

在全自动匹配模式下, 自动控制器依照客户所设定的阳电流 Vd 及阳电压 ID 自动调整气体以维持工艺所需要的离子束能量. 全自动控制器可以记忆四组离子参数, 工艺中更换参数组别时可以在离子束点火中直接切换参数组别, 不需重新熄火点燃离子束, 以达到稳定的离子束状态.

离子源典型案例:
1. 设备: 1.3 米镀膜机
2. 基材: 塑胶护目镜

3. 离子源条件: Vb: 140V ( 离子束阳电压 ), Ib: 2.5A (离子束阳电流), O2 gas: 9sccm (氧气).

上海伯东是美国考夫曼离子源 Kaufman & Robinson, Inc 中国总代理. 美国 KRI 霍尔离子源全自动匹配, 四组参数记忆, 可同时控制四种气体流量的设计, 可以提供更方便的操作及获得更稳定的离子束. KRI 霍尔源控制器可以替换 Veeco Commonwealth 控制器！

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.