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上海伯东 KRI 考夫曼离子源典型应用 IBF 离子束抛光工艺
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KRI 考夫曼离子源典型应用 IBF 离子束抛光工艺
离子束抛光加工 Ion Beam Figuring, IBF 已逐渐成为光学零件表面超精加工常用的后一道工艺, 离子源是离子束抛光机的核心部件. 上海伯东美国 KRI 直流电源式考夫曼离子源 KDC 系列成功应用于光学镀膜离子束抛光机 IBF Optical coating 及晶体硅片离子束抛光机 IBF Clrystalline )工艺.
考夫曼离子源通过控制离子的强度及浓度, 使抛光刻蚀速率更快更准确, 抛光后的基材上获得更平坦, 均匀性更高的薄膜表面. KDC 考夫曼离子源内置型的设计更符合离子源于离子抛光机内部的移动运行. 上海伯东是美国 KRI 考夫曼离子源中国总代理.
KRI 离子源离子束抛光实际案例一:
1. 基材: 100 mm 光学镜片
2. 离子源条件: Vb: 800 V ( 离子束电压 ), Ib: 84 mA ( 离子束电流 ) , Va: -160 V ( 离子束加速电压 ), Ar gas ( 氩气 ).
| 离子束抛光平坦度影像呈现图 | 离子束抛光后平坦度影像呈现图 |
KRI 离子源离子束抛光实际案例二:
1. 基材: 300 mm 晶体硅片
2. 离子源条件: Vb: 1000 V ( 离子束电压 ), Ib: 69 mA ( 离子束电流 ), Va: -200 V ( 离子束加速电压 ) Ar gas ( 氩气 )
| 离子束抛光平坦度影像呈现图 | 离子束抛光后平坦度影像呈现图 |
KRI 离子源实际安装案例一: KDC 10 使用于光学镀膜离子束抛光机
KRI 离子源实际安装案例二: KDC 40 使用于晶体硅片离子束抛光机
上海伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 系列根据客户离子抛光工艺条件提供如下型号:
| 型号 | KDC 40 | KDC 75 | KDC 100 | KDC 160 | |
| 电压 | DC magnetic confinement | ||||
| - 阴灯丝 | 1 | 1 | 2 | 2 | 2 |
| - 阳电压 | 0-100V DC | ||||
| 电子束 | 电子束 | ||||
| - 栅 | 用,自对准 | ||||
| - 栅直径 | 1 cm | 4 cm | 7.5 cm | 12 cm | 16 cm |
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
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原创作者：伯东企业（上海）有限公司
