联系我们
联系人：叶女士
技术文章
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 镀制气体传感器 WO3 薄膜
点击次数：349 发布时间：2021/1/22 14:41:49
商家名片
叶**
联系我时，请说明是阿仪网看到的，谢谢!
- 电话: 02***********106
- 手机: 13******267
- 微信:
- 交换名片后展示联系方式 → →
某传感器制造商为了制备出具有高结晶度、大比表面积、排列规则的纳米结构 WO3 薄膜, 经过对比选择, 采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助磁控溅射沉积设备镀制 WO3 薄膜.
KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:
| 射频离子源型号 | RFICP380 |
| Discharge 阳 | 射频 RFICP |
| 离子束流 | >1500 mA |
| 离子动能 | 100-1200 V |
| 栅直径 | 30 cm Φ |
| 离子束 | 聚焦, 平行, 散射 |
| 流量 | 15-50 sccm |
| 通气 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
| 典型压力 | < 0.5m Torr |
| 长度 | 39 cm |
| 直径 | 59 cm |
| 中和器 | LFN 2000 |
美国 KRI 射频离子源 RFICP 380 特性:
1. 大面积射频离子源
2. 提供高密度离子束, 满足高工艺需求
3. 采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长, 更适合时间长的工艺要求
4. 离子束流: >1500 mA
5. 离子动能: 100-1200 V
6. 中和器: LFN 2000
7. 采用自动控制器, 键自动匹配
8. RF Generator 可根据工艺自行选择离子浓度, EX: 1kW or 2kW
9. 离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装
10. 栅材质钼和石墨, 坚固耐用
11. 通入气体可选 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others
气体传感器可以将被检测气体的种类、浓度等信息转变为可测信号, 并将计算机与被检测到的信号连接口相连接, 构成自动的监控、检测和报警系统. 氧化钨薄膜可以吸附各种气体, 从而导致薄膜的电阻或光学参数的变化, 常常应用于气体传感器域.
KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的.
原创作者：伯东企业（上海）有限公司
