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KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 应用于 AlTiN 涂层研究

点击次数:275 发布时间:2021/1/5 15:49:53
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叶**
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四川某大学实验室研究靶电流, 偏压、沉积时间等各试验工艺参数对两组试样 AlTiN 涂层力学性能的影响, 旨在找出能够镀制优良性能涂层的佳工艺方案的项目中采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 作为溅射源.

伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:

型号

RFICP140

Discharge

RFICP 射频

离子束流

>600 mA

离子动能

100-1200 V

栅直径

14 cm Φ

离子束

聚焦, 平行, 散射

流量

5-30 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

24.6 cm

直径

24.6 cm

中和器

LFN 2000

AlTiN 涂层具有高抗氧化性, 良好热硬性, 摩擦系数低, 与基体之间结合力强, 耐磨性强等优点. 因此AlTiN涂层在机械加工行业,尤其是在刀具域,直是研究的热点.

KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的.

KRI 离子源是域公认的导者, 已获得许多利. KRI 离子源已应用于许多已成为行业标准的过程中.

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

原创作者:伯东企业(上海)有限公司

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