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KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 制备高性能光通信带通滤光膜

点击次数:295 发布时间:2020/12/30 16:03:50
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KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 制备高性能光通信带通滤光膜

光通信的信息载体是光波, 为了进步提高光通信系统中光信号的传输质量, 满足光通信系统的使用要求, 广东中山某研究机构采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 制备高性能光通信带通滤光膜.

伯东 KRI 射频离子源 RFICP220 技术参数:

离子源型号

RFICP220

Discharge

RFICP 射频

离子束流

>800 mA

离子动能

100-1200 V

栅直径

20 cm Φ

离子束

聚焦, 平行, 散射

流量

10-40 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

30 cm

直径

41 cm

中和器

LFN 2000

* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量

KRI 射频离子源 RFICP 220

在该研究项目中, 以 Ta2O5 和 SiO2 作为镀膜材料, 设计了含有 12 个谐振腔的带通滤光膜, 分析并解决了耦合层膜厚监控的问题.

运行结果:

制备的带通滤光膜在 1528~1571 nm 处插入损耗小于 0.2 dB, 1470~1521 nm 和 1578~1651 nm 处透射隔离度大于 40 dB, 满足实际使用要求.

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

原创作者:伯东企业(上海)有限公司

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