技术文章
磁控溅射仪的安装条件
点击次数：28 发布时间：2024/4/7 13:08:53
商家名片
叶*
联系我时，请说明是阿仪网看到的，谢谢!
- 电话: 02*******527
- 手机: 17******516
- 微信:
- 交换名片后展示联系方式 → →
VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪，一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜，一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。
安装条件
本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）
2、电：AC220V50Hz，必须有良好接地
3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带Ø6mm双卡套
接头）及减压阀
4、工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上
5、通风装置：需要
主要特点
1、配置两个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜，应用广泛。
3、体积小，操作简便。
磁控溅射仪如有需要欢迎访问以下网址与我们取得联系
http://www.hongruizd.com/Products-38216451.html
https://www.chem17.com/st607225/product_38223867.html
原创作者：威格尔仪表（江苏）有限公司
