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小型金属溅射镀膜机优点
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2、预溅射挡板功能,刚开始镀膜的时候腔室里会有些杂质,挡板可以保护样品,提高薄膜质量
3、带有水冷系统,可以长时间溅射镀膜,厚度可达1微米以上。
4、直流磁控溅射,提高附着力,溅射速率快,比离子溅射快上一个量。针对某些金属快能达到1-2纳米每,
5、不但可以电镜制样,还可以制作金属电。
6、可扩展膜厚监测,监测薄膜厚度。
7、基板低温。磁控溅射相对于二溅射和热蒸发来说,加热少,可实现低温基板溅射镀膜。
8、沉积率高。磁控溅射可溅射钨、铝薄膜和反应溅射TiO2、ZrO2薄膜。
9、环保。磁控溅射镀膜法生产效率高,没有环境污染。
10、涂层牢固。溅射薄膜与基板机械强度得到改善,具有更好的附着力。
11、操作简单。只要保持压强、电功率溅射条件稳定,就能获得比较稳定的沉积速率。
溅射仪使用需注意
1 靶材需要良好的导电性, 如果具备这个条件 可以镀
2 遇到容易氧化的金属 需要配备分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氩气维持真空到1Pa左右镀膜的金属接近本色
真空度方面
可以到-3 分子泵显示1E-4 腔体大概5E-3 当然 这个差别大小也和连接真空腔体的波纹管长度有关 波纹管长度越短差别越小
原创作者:郑州科探仪器设备有限公司


