铝合金光学平板（无磁）创谱仪器

随着光学加工设备和测量仪器精度的不断提高， 其对工作环境的振动隔离提出了更加严苛的要求。例如，离子激光器泵浦喷流染料激光器时，激光器的振动要求达到了微米；由于可见光波长约为0.5微米，即使振动在次微米别时，以光的干涉为基础的实验（如全息摄影） 也将无法进行； LμmArray 公司的并行激光直写设备的直写头振动线位移不能超过15nm ;超精密机械加工的表面粗糙度要求已经达到 0.1nm ;高精度扫面探针显微镜的双向分辨率都已达到亚纳米。因此，对光学加工设备及光学测量仪器进行有效的隔振是保证科研生产活动正常进行的必要条件。

同时，对于大型精密光学仪器来说，其除了有近乎严苛的隔振要求外，仪器本身往往还具有较大的体积和质量，这对作为隔振基础的光学隔振平台的承载能力和工作空间也提出了更进一步的要求。因此，隔振性能好、承载能力强、工作空间大的大型或超大型精密光学隔振平台具有了较大的市场需求。