CVD-1700真空系统

1700℃真空CVD系统由高温管式炉，高真空扩散泵/分子泵系统，多通道高精度数字质量流量控制系统，自动压强控制系统等组成。可实现本底真空达0.001—0.0001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。

主要功能和特点：

1、真空系统可根据使用要求选择我司扩散泵机组或分子泵机组；

2、可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的控制；

3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计，流量显示仪等组成，实现气体的流量的精密测量和控制；

4、每条气体管路均配备高压逆止阀，系统的安全。

5、采用水冷KF快速法兰密封，装卸方便快捷；

6、管路采用世界*Swagelok卡套连接，不漏气；

7、超温、过压时，自动切断加热电源及流量计进气，设备及实验的安全性。

主要用途：

适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长等场所。

主要技术参数：

SGL-1700高温炉

控温方式

采用人工智能调节技术，具有PID调节、自整定功能，并可编制50段升降温程序。

加热元件

进口1700型硅钼棒

工作电源

AC220V 50Hz/60Hz；额定功率6kw

炉管材质

99瓷氧化铝刚玉管

炉管尺寸

Φ60/80/100*/1000mm

工作温度

≤1600℃

zui高温度

1650℃

恒温精度

±1℃

升温速度

≤10℃/min

测温元件

B型热电偶

密封方式

不锈钢水冷KF法兰挤压密封

ZK真空系统

ZK-F

ZK-K

真空范围

0.1-0.001Pa

0.1-0.01Pa

极限真空

5.0*10^-5Pa

5.0*10^-4Pa

产品配置

双级旋片真空泵+分子泵

双级旋片真空泵+扩散泵

冷却方式

风冷

水冷

抽 速

110L/S

100L/S

测量方式

复合真空计

真空规管

电阻规+电离规

ZDC-I压强控制系统

测量范围

1*10^5～1*10^-1 Pa

稳压(真空)范围

1*10^3～1*10Pa

压力(稳定精度）

±3%

控制范围

2.5*10^3～5*10^-1 Pa

控制精度

± 1%

HQZ-Ⅲ混气系统

控制方式

D07⁻⁷K质量流量计,D08流量显示仪

流量规格（可订制）

0－500SCCM /0－1SLM,

线 性

±1%F.S.

度

±1%F.S.

重复精度

±0.2%F.S.

响应时间

≤2sec

耐 压

3MPa

气路通道

3通道（根据客户需求）

针 阀

316不锈钢

管 道

Φ6mm不锈钢管

接 口

SwagelokΦ6mm