RIE反应离子刻蚀机

　　RIE反应离子刻蚀机采用 RIE 反应离子诱导激发方式，实现对材料表面各向异性的微结构刻蚀。特别适合于大学、科研院所，微电子、半导体企业实验室进行介质刻蚀、硅刻蚀、金属刻蚀等方面研究。使用成本低，性价比高，易维护，处理快速高效。RIE反应离子刻蚀机适用于所有的基材及复杂的几何构形进行 RIE 反应离子刻蚀。

　　具体包括：

　　◆ 介电材料（SiO2、SiNx 等）

　　◆ 硅基材料（Si，a-Si，poly Si）

　　◆III-V 材料（GaAs、InP、GaN 等）

　　◆ 溅射金属（Au、Pt、Ti、Ta、W 等）

　　◆ 类金刚石（DLC）

　　应用领域：

　　RIE反应离子刻蚀机主要用于微电子芯片、太阳能电池、生物芯片、显示器、光学、通讯等领域的器件研发和制造。

　　产品特点

　　◆7 寸彩色触摸屏中英文互动操作界面，自动控制监测工艺参数状态，20 个配方程序，工艺数据可存储追溯。

　　◆PLC 工控机控制整个清洗过程，手动、自动两种工作模式。

　　◆真空舱体、全真空管路系统采用 316 不锈钢材质，耐腐蚀无污染。

　　◆采用防腐数字流量计，实现对气体输入控制。标配双路气体输送系统， 可选多气路气体输送系统， 可输入氧气、氩气、 氮气、四氟化碳、氢气或混合气等气体。

　　RIE反应离子刻蚀机

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