技术文章
沉积系统
点击次数：35 发布时间：2023/4/23 10:03:32
商家名片
章**
联系我时，请说明是阿仪网看到的，谢谢!
- 电话: 18******255
- 手机: 18******255
- 微信:
- 交换名片后展示联系方式 → →
三到六个端口传送腔室可用于集成ICP等离子刻蚀机、RIE刻蚀机、原子层沉积系统、PECVD和ICPECVD沉积设备，以满足研发的要求。样品可以通过预真空室和/或真空片盒站加载。
详细介绍
沉积系统介绍
高产量
等离子蚀刻和沉积腔体可以与多达两个片盒站组合，用于到200 mm晶片的高产量工艺。
研发
三到六个端口传送腔室可用于集成ICP等离子刻蚀机、RIE刻蚀机、原子层沉积系统、PECVD和ICPECVD沉积设备，以满足研发的要求。样品可以通过预真空室和/或真空片盒站加载。
沉积系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔体、传送腔室、预真空室或片盒站。传送腔室包括传送机械手臂，可适用于三至六个端口。可以使用多达两个片盒站来增加产量。传送腔室可以配备多种选择。
用于研发的SENTECH多腔系统通过图形用户界面控制软件操作。强大的控制软件可用于工业域高产量的多腔系统。
沉积系统产品链接：
http://www.chxwcx.com/ParentList-2425948.html
https://www.chem17.com/st207575/list_2425948.html
原创作者：扬州海沃电气科技发展有限公司
