分子泵组应用于脉冲激光沉积系统 PLD

涡轮分子泵组应用于脉冲激光沉积系统 PLD
脉冲激光沉积系统 PLD 可用来制备金属和各种物质薄膜, 甚至还用来制备一些难以合成的材料膜. 为了提高 PLD 系统的真空度和加快抽空时间, 经过伯东推荐选用分子泵+分子泵组串联组合的形式来提高系统的真空度. 更快达到其使用要求.

涡轮分子泵组应用于脉冲激光沉积系统 PLD 客户案例一: 上海伯东某客户选用美国相干 Coherent 公司出产的 COMPexPro205 型 KrF 激光器, 用于原位生长不同材料的多层薄膜. 通过伯东推荐采购 2台涡轮分子泵组 Hicube 80 Eco

涡轮分子泵组应用于脉冲激光沉积系统 PLD 客户案例二: 某大学采购铠柏科技 Adnano PLD 系统, 使用伯东 Pfeiffer 分子泵和涡轮分子泵组.

上海伯东德国 Pfeiffer HiCube 80 便携式分子泵组, 可以提供原有的真空度水平至半个数量或加快抽空时间！
上海伯东 Pfeiffer 分子泵组 HiCube Eco 技术规格

Pfeiffer 涡轮分子泵组整体模块化设计, 内部集成泵和分子泵, "即插即用", 抽速范围 35 至 685 L/S, 限真空 5X10-10 hPa, 提供经济型分子泵组 ECO, 标准型分子泵组 Classic 和高性能涡轮分子泵组 Pro 满足不同应用, 推荐搭配 Pfeiffer 真空计共同使用.

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