德国Nanoscrib 双光子微纳3D打印机Quantum X,结合了灰度光刻机的卓越性能和纳米筛网创的双光子聚合技术的精确性和灵活性。该无掩模光刻系统实现了二维和2.5D的衍射和折射显微光学的快速制作。
德国Nanoscrib 双光子微纳3D打印机Quantum X
关键词：德国Nanoscrib 双光子微纳3D打印机Quantum X
重新定义精密加工。
全新的量子X是基于双光子灰度光刻(2GL)的工业系统。我们的设备结合了灰度光刻机的卓越性能和纳米筛网创的双光子聚合技术的精确性和灵活性。该无掩模光刻系统实现了二维和2.5D的衍射和折射显微光学的快速制作。
Quantum X软件实时控制和监控打印作业，并执行自动系统校准。用户-机器交互由用触摸屏或远程控制界面支持。
关键特性
2.5 d高速精密加工
超光滑的表面和卓越的形状精度设计自由度，亚微米分辨率完整和超快控制体素尺寸自动化过程，例如校准，
作业执行和监视
广泛的基材树脂组合，通过作业队列触摸屏和远程控制界面，连续执行各种打印作业
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Technical Specifications | |
| Printing technology： | Two-Photon Grayscale Lithography (2GL) |
| Minimum XY feature size： | 160 nm typical; 200 nm specified* |
| Finest XY resolution： | 400 nm typical; 500 nm specified* |
| Finest vertical steps： | 10 nm, quasi-continuous ographies possible |
| Minimum surface roughness Ra： | ≤ 10 nm* |
| Scan speed： | ≤ 250 mm/s* |
| Area printing speed： | 3 mm²/h typical for diffractive optical elements |
关键词：德国Nanoscrib 双光子微纳3D打印机Quantum X
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