技术参数:
衬底尺寸和类型
。156 mm x 156 mm硅片800~1000片/批次(双面/背对背)
。高达400 mm x 600 mm玻璃基板30~50片/批次(双面/背对背)
。大批量的3D产品(例如:钟表部件,珠宝,硬币,医疗植入部件,机械部件等)
。多孔,通孔,高深宽比(HAR)样品
工艺温度: 50 - 500 °C
基片传送选件:
。气动升降(手动装载,带叉车forklift cart)
。全自动转载,用工业机器人实现
前驱体:
。液态、固态、气态、臭氧源
。前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务
。8根独立源管线,最多加载12个前驱体源
重量: 2000 kg
尺寸:(W x H x D) 230 cm x 270 cm x 125 cm
选件: PICOFLOW™ 扩散增强器,N2发生器,尾气处理器,定制设计,与工厂软件连接服务。
验收标准: 标准设备验收标准为 Al2O3 工艺

其它可选装置:
关键词:PICOSUN P-1000 Pro ALD 生产型原子层沉积机 镀膜沉积 原子层沉积机
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