产品描述
荧光光谱仪" alt="连续波长色散X射线荧光光谱仪" width="800" height="610" border="0" vspace="0" style="box-sizing: border-box; padding: 0px; margin: 0px; display: inline-block; vertical-align: middle; border: ; max-width: 100%; width: 800px; height: 610px;" />
Rigaku 独特的 ZSX Primus 400 连续波长色散 X 射线荧光 (WDXRF) 光谱仪为处理非常大或重的样品而设计。该系统可接受直径大为 400 毫米、厚度为 50 毫米和质量为 30 千克的样品，非常适合分析溅射靶材、磁盘，或用于多层薄膜计量或大型样品的元素分析。
优点
带有定制样品适配器系统的 XRF,适应特定样品分析需求的多功能性，可使用可选适配器插件适应各种样品尺寸和形状。凭借可变测量点（直径 30 毫米至 0.5 毫米，具有 5 步自动选择）和具有多点测量的映射功能以检查样品均匀性。
具有可用相机和特殊照明的 XRF,可选的实时摄像头允许在软件中查看分析区域。
仍保留了传统仪器的所有分析能力。
安全性
采用上照射设计,样品室可简单移出，再不用担心污染光路，清理麻烦和增加清理时间等问题。
固体、液体、粉末、合金和薄膜的元素分析:
溅射靶材组成.
隔离膜：SiO2、BPSG、PSG、AsSG、Si₃N₄、SiOF、SiON等。
高 k 和铁电介质薄膜：PZT、BST、SBT、Ta2O5、HfSiOx
金属薄膜：Al-Cu-Si、W、TiW、Co、TiN、TaN、Ta-Al、Ir、Pt、Ru、Au、Ni等。
电膜：掺杂多晶硅（掺杂剂：B、N、O、P、As）、非晶硅、WSix、Pt等。
其他掺杂薄膜（As、P）、困惰性气体（Ne、Ar、Kr等）、C（DLC）
铁电薄膜、FRAM、MRAM、GMR、TMR；PCM、GST、GeTe
焊料凸点成分：SnAg、SnAgCuNi
MEMS：ZnO、AlN、PZT的厚度和成分
SAW器件工艺：AlN、ZnO、ZnS、SiO 2（压电薄膜）的厚度和成分；Al、AlCu、AlSc、AlTi（电膜）
大样本分析：大 400 毫米（直径），大 50 毫米（厚度），高达 30 千克（质量）
样品适配器系统，适用于各种样本量
测量点：30 毫米至 0.5 毫米直径，5步自动选择
映射能力，允许多点测量
样品视图相机（可选）
分析范围：Be - U
元素范围：ppm 至 %
厚度范围：sub Å 至 mm
衍射干扰抑制（可选）：单晶衬底的准确结果
符合行业标准：SEMI、CE标志
占地面积小，以型号的 50% 占地面积
关键词：波长色散X射线荧光光谱仪 波长色散XRF 理学波谱仪
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