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PHI Versaprobe 4 X射线光电子能谱仪

产品属性本产品采购属于商业贸易行为

企业档案

上海斯迈欧分析仪器有限公司

6 营业执照已上传

企业类型:经销商

公司地址:上海张江高科技园区

主营产品:进口液质联用仪,液质联用LC-MS品牌|厂家|价格

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产品简介

The PHI 5000 Versaprobe II (VP-II) 能提供高性能的微区光谱,化学成像,二次电子成像,具有离子与电子双中和系统,以及可以在低电压也可工作的高效能离子枪,UPS适用于表面状态分析,能获得能带结构。

详细内容

公司简介

 XPS 作为一种重要的表面分析方法,广泛应用于固体材料表面的元素组分和化学态的研究,例如电池材料,催化剂,集成电路,半导体,金属,聚合物,陶瓷和玻璃等,可满足从研发到失效分析的广泛分析需求。VersaPrabe4 采用了全新设计的高灵敏分析器,灵敏度是上一代的2倍,具有更低的检测限,能够实现从微区到大面积的高灵敏度化学分析。微聚焦扫描X射线和SXI影像,通过类似SEM的SXI影响可以作为样品导航,实现100%精准地定义微区分析位置

 

PHI Versaprobe 4 X射线光电子能谱仪应用范围:

包括表面的元素与化学态分析(氢和氦除外)。

表面物种的化学状态的识别,包括有机和无机材料,导体和绝缘体。

深入薄膜中的组成元素分布概况,包括半导体、薄膜结构,磁介质薄膜,光学镀膜,装饰涂料,和耐磨涂层。

在必须避免会对电子束技术有破坏性效果时的样品成分分析。

 

3.png

XPS:固体样品的表面组成分析,化学状态分析,取样讯息深度为~10nm以内. 功能包括:
1. 表面定性与定量分析. 可得到小於10um 空间分辨率的X射线光电子能谱的全谱资讯。
2. 维持10um以下的空间分辨率元素成分包括化学态的深度分析(角分辨方式,,氩离子或团簇离子刻蚀方式)
3. 线扫描或面扫描以得到线或面上的元素或化学态分布。
4. 成像功能。
5. 可进行样品的原位处理 AES:1.可进行样品表面的微区选点分析(包括点分析,线分析和面分析) 2.可进行深度分析适合: 纳米薄膜材料,微电子材料,催化剂,摩擦化学高分子材料的表面和界面研究

 

 


关键词:X射线光电子能谱仪  

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