用于真空蒸发镀光学薄膜、有机物薄膜和金属薄膜、在衬底上沉积各单层金属 膜，主要用于蒸镀电及有机半导体材料的物理化学性能研究实验研究 。特别适合于高科技企业、科研单位和高校用于膜层研究和膜系开发。
小型蒸发镀膜仪，实验室气相沉积设备主要技术参数
真空腔室尺寸：Φ300*H400mm,预留膜厚仪接口304不锈钢材料，圆柱式，门上配有观察窗；
真空系统： 分子泵 +直联旋片泵+高真阀门； “一低一高”数显复合真空计；
限真空： 真空限优于 5×10-5Pa ；
温度范围： RT-600/1600℃，可调可控；
基片台尺寸：大可镀基片尺寸/面积：Φ100mm 范围内可装卡各种规格配 套相应样品架可固定各类不锈钢掩膜板。
基片台旋转:0-20 转/分钟，可调可控；
蒸发源及电源：水冷蒸发电，金属蒸发电源；
控制方式：PLC+触摸屏,自动控制；
报警及保护：对泵、电等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统；
设备配电： AC220V/50HZ ,功率：3.5KW；
设备尺寸：长×宽×高:500*360*420mm；
关键词：小型蒸发镀膜仪 实验室气相沉积设备
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