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se500椭偏仪薄膜测量薄膜材料的厚度、nk性能250-1700nm,是一种利用光的偏振态变化来进行薄膜性质表征的仪器,主要用来测量薄膜材料的厚度、nk参数等性质。
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se300椭偏仪400nm到1000nm测量薄膜材料厚度,是一种利用光的偏振态变化来进行薄膜性质表征的仪器,主要用来测量薄膜材料的厚度、nk参数等性质。
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se200ba-m300椭偏仪测量250nm到1000nm薄膜材料厚度分析设备,一种利用光的偏振态变化来进行薄膜性质表征的仪器。可实现对材料紫外、可见和红外波段的全覆盖测量研究,同时可搭配自动平台扫描、自动变角、微光斑探测以及平台加热等功能满足不同应用需求。
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